[發明專利]掩模清潔設備和清潔掩模的方法有效
| 申請號： | 201811201628.2 | 申請日： | 2018-10-16 |
| 公開（公告）號： | CN109669322B | 公開（公告）日： | 2021-07-09 |
| 發明（設計）人： | 李成洙;樸貞英;樸性范;姜丙喆 | 申請（專利權）人： | 細美事有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中倫律師事務所 11410 | 代理人： | 楊黎峰;鐘錦舜 |
| 地址： | 韓國忠*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 清潔 設備 方法 | ||
1.一種用于清潔光掩模的方法，所述方法包括：
在所述光掩模停止的狀態下，在所述光掩模的整個表面上潤濕化學品的預處理操作；和
在所述光掩模旋轉的狀態下，將所述化學品供應到所述光掩模的圖案區域的清潔操作，
其中在所述預處理操作中，將所述化學品供應到所述光掩模的非圖案區域。
2.根據權利要求1所述的方法，其中所述預處理操作包括：
將噴嘴移動到所述光掩模的非圖案區域；和
從位于所述非圖案區域的所述噴嘴排出所述化學品，
其中所述化學品在所述非圖案區域中被釋放，直到所述光掩模的整個表面被所述化學品潤濕。
3.根據權利要求2所述的方法，其中所述清潔操作包括：
將所述噴嘴從所述非圖案區域移動到所述圖案區域的中心；和
從移動到所述圖案區域的中心的所述噴嘴排出化學品。
4.根據權利要求1所述的方法，其中所述預處理操作包括：
將噴嘴移動到所述光掩模的非圖案區域；和
從位于所述非圖案區域的所述噴嘴排出所述化學品，
其中所述噴嘴在從所述非圖案區域移動到所述圖案區域的中心的同時排出所述化學品。
5.根據權利要求1所述的方法，其中所述化學品是硫酸和過氧化物的混合液。
6.一種光掩模清潔裝置，包括：
支撐板，所述支撐板被配置為支撐光掩模；
支撐板驅動器，所述支撐板驅動器被配置為使所述支撐板旋轉；
噴嘴，所述噴嘴被配置為將化學品噴射到位于所述支撐板上的所述光掩模上；
噴嘴驅動器，所述噴嘴驅動器被配置為驅動所述噴嘴；和
控制器，所述控制器被配置為控制所述支撐板驅動器和所述噴嘴驅動器，
其中所述控制器控制所述噴嘴驅動器，使得在執行清潔工藝期間使所述噴嘴停止的狀態下，所述噴嘴開始在所述光掩模的非圖案區域中供應所述化學品。
7.根據權利要求6所述的光掩模清潔裝置，其中所述控制器控制所述噴嘴驅動器將所述噴嘴移動到所述光掩模的圖案區域的中心，并且在所述光掩模的整個表面被從所述噴嘴噴出的化學品潤濕之后噴射所述化學品。
8.根據權利要求7所述的光掩模清潔裝置，其中所述控制器控制所述支撐板驅動器使所述光掩模從所述噴嘴在所述圖案區域的中心噴射所述化學品時開始旋轉。
9.根據權利要求6所述的光掩模清潔裝置，其中所述控制器控制所述噴嘴驅動器將所述噴嘴從所述非圖案區域移動到所述光掩模的圖案區域，使得所述光掩模的整個表面被從所述噴嘴噴射的化學品潤濕。
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