[發明專利]一種自由曲面公差的分析方法有效
| 申請號： | 201811199643.8 | 申請日： | 2018-10-16 |
| 公開（公告）號： | CN109212751B | 公開（公告）日： | 2021-08-13 |
| 發明（設計）人： | 高陽;張海軍;劉龍飛;姬強;周亮;李卓;龍尤 | 申請（專利權）人： | 中國航空工業集團公司洛陽電光設備研究所 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京清大紫荊知識產權代理有限公司 11718 | 代理人： | 張艷 |
| 地址： | 471026 河南*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 自由 曲面 公差 分析 方法 | ||
1.一種自由曲面公差的分析方法，所述分析方法用于指導自由曲面加工，其特征在于：針對由特定公式描述的自由曲面，通過公式系數唯一確定一個自由曲面面型；
根據設計目標進行自由曲面的公差分析，明確自由曲面面型偏差的容許范圍；
根據加工工藝特性，確定各項系數值公差范圍對應的概率密度分布函數；
當隨機樣本數不足時，按照期望值和公差范圍生成自由曲面的隨機面型樣本，以密集的曲面點坐標的形式描述隨機樣本；將設計面型同樣以密集的曲面點坐標的形式描述，并與隨機樣本的曲面點坐標對比，分析得出隨機樣本相對于設計面型的PV值；循環直到判斷隨機樣本數足夠為止；
將所述公式的公式系數的公差，通過統計方法轉換為PV值公差。
2.根據權利要求1所述的分析方法，其特征在于：根據光學設計軟件的分析結果確定所述公式系數的公差。
3.根據權利要求1所述的分析方法，其特征在于：基于所述公式系數的公差按照概率密度分布函數對所述公式系數進行隨機擾動。
4.根據權利要求3所述的分析方法，其特征在于：基于所述公式系數的公差作為3倍標準差按照正態分布函數對所述公式系數進行隨機擾動。
5.根據權利要求1所述的分析方法，其特征在于：對所述公式系數引入隨機擾動并進行批量分析計算，在統計分析后將所述公式系數的公差轉換成PV值公差。
6.根據權利要求5所述的分析方法，其特征在于：所述統計分析的樣本數為1萬以上。
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