[發(fā)明專利]用于修正投射的光束中的幾何缺陷的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811199584.4 | 申請日： | 2018-10-15 |
| 公開（公告）號： | CN109668115B | 公開（公告）日： | 2021-09-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 皮爾·阿爾布;文森特·高德比倫 | 申請（專利權(quán)）人： | 法雷奧照明公司 |
| 主分類號： | F21S41/36 | 分類號： | F21S41/36;F21S41/25;F21S43/31;F21S43/20;F21W102/00;F21W103/00;F21W107/10;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 張啟程 |
| 地址： | 法國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 修正 投射 光束 中的 幾何 缺陷 方法 | ||
1.一種用于修正由機動車輛的光學模塊(1)投射的光束中的幾何缺陷的方法，所述光學模塊(1)包括：
成像裝置，所述成像裝置設(shè)置有高清像素化空間調(diào)制器(3)和投射光學器件(18)；和
光源(2)，所述光源用于產(chǎn)生旨在用于所述調(diào)制器(3)的光，
該方法包括以下步驟：
接收旨在用于所述調(diào)制器(3)的第一顯示命令(F1)以顯示待投射的圖像；以及
將所述第一顯示命令(F1)轉(zhuǎn)換為考慮校正參數(shù)的第二顯示命令(F2)，
基于識別所述投射光學器件(18)特有的幾何缺陷而預限定所述校正參數(shù)，由此控制所述調(diào)制器(3)，使得利用所述成像裝置實際投射的圖像(F3)比沒有考慮所述校正參數(shù)的情況下更好地對應于所述待投射的圖像；
其中，在選擇性激活一行(LP3)像素(30)中的全部或一些像素時，所述第二顯示命令(F2)與所述第一顯示命令(F1)不同，所述行由所述調(diào)制器(3)在邊沿區(qū)域中限定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述校正參數(shù)適合于修改由所述調(diào)制器(3)限定的像素(30)的激活狀態(tài)，以便補償以下缺陷中的至少一個缺陷：
由所述投射光學器件(18)傳送的光束的輪廓的橫向移位；和
由所述投射光學器件(18)傳送的光束的輪廓的變形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述校正參數(shù)適合于修改所述調(diào)制器(3)的像素(30)的激活的持續(xù)時間或頻率，以便補償所述實際投射的圖像(F3)的清晰度損失。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述校正參數(shù)適合于修改所述調(diào)制器(3)的像素(30)的激活的持續(xù)時間或頻率，以便補償所述實際投射的圖像(F3)的靠近由所述投射光學器件(18)傳送的光束的周邊處的清晰度損失。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述校正參數(shù)和/或所述第二顯示命令(F2)存儲在控制單元(16)可訪問的存儲器(16a)中，所述控制單元(16)適合于激活所述第二顯示命令(F2)。
6.一種用于機動車輛的發(fā)光系統(tǒng)(5)，所述發(fā)光系統(tǒng)允許實施根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的方法，所述發(fā)光系統(tǒng)(5)包括：
光學模塊(1)，所述光學模塊包括：
成像裝置，所述成像裝置設(shè)置有高清像素化空間調(diào)制器(3)和投射光學器件(18)；和
光源(2)，所述光源用于產(chǎn)生旨在用于所述高清像素化空間調(diào)制器(3)的光；以及
控制單元(16)，所述控制單元被設(shè)計和布置成控制所述高清像素化空間調(diào)制器(3)并且適用于接收第一顯示命令(F1)，所述第一顯示命令(F1)中的每一個第一顯示命令代表待投射的圖像，
所述控制單元(16)包括調(diào)節(jié)裝置(17)，用于將每一個第一顯示命令(F1)轉(zhuǎn)換成考慮校正參數(shù)的第二顯示命令(F2)，
所述校正參數(shù)是基于識別每一個投射光學器件(18)特有的幾何缺陷而被預限定的，所述控制單元(16)基于第二顯示命令(F2)控制所述高清像素化空間調(diào)制器(3)，以便由所述成像裝置實際投射的所述圖像(F3)比沒有考慮校正參數(shù)的情況下更好地對應于所述待投射的圖像。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光系統(tǒng)，其中，所述高清像素化空間調(diào)制器(3)包括數(shù)字微鏡裝置(6)，所述數(shù)字微鏡裝置(6)的微鏡(12)均能在以下位置之間移動：
第一位置，所述微鏡(12)在該第一位置布置成在朝向所述投射光學器件(18)的方向上反射來自所述光源(2)或者包括所述光源(2) 的光線發(fā)射單元(20)的光線(R1)；和
第二位置，其中，所述微鏡(12)在該第二位置布置成在遠離所述投射光學器件(18)的方向上反射來自所述光源(2)或者包括所述光源(2)的光線發(fā)射單元(20)的光線(R1)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光系統(tǒng)，其中，所述控制單元(16)能夠訪問存儲所述校正參數(shù)和/或代表所述第二顯示命令(F2)的信息的存儲器(16a)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于法雷奧照明公司，未經(jīng)法雷奧照明公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201811199584.4/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
