[發(fā)明專利]基于深度學(xué)習(xí)的去除馬賽克的方法、裝置及電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811193895.X
• 申請日: 2018-10-15
• 公開（公告）號: CN109410123B
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳苗
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市能信安科技股份有限公司
• 主分類號: G06T3/40
• 分類號: G06T3/40
• 代理公司: 北京圣達博通知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11675
• 代理人: 馬皓

1.基于深度學(xué)習(xí)的去除馬賽克的方法，其特征在于，包括：

獲取待修復(fù)圖像，所述待修復(fù)圖像中包括待修復(fù)馬賽克區(qū)域；

將所述待修復(fù)圖像輸入至圖像修復(fù)模型中，通過所述圖像修復(fù)模型生成與所述待修復(fù)圖像對應(yīng)的被掩碼masked圖像；

其中，與所述待修復(fù)圖像對應(yīng)的masked圖像滿足：與所述待修復(fù)圖像大小相同，圖像中的掩碼mask區(qū)域重疊或覆蓋所述待修復(fù)馬賽克區(qū)域，圖像中的mask區(qū)域的像素值為設(shè)定值，圖像中除mask區(qū)域之外的區(qū)域的像素值為所述待修復(fù)圖像中相應(yīng)區(qū)域的像素值；

通過所述圖像修復(fù)模型對所述masked圖像進行修復(fù)，得到修復(fù)后的圖像；

其中，所述圖像修復(fù)模型是通過以下方式訓(xùn)練得到的：

獲取圖像數(shù)據(jù)集，并將所述圖像數(shù)據(jù)集隨機劃分為訓(xùn)練數(shù)據(jù)集和驗證數(shù)據(jù)集，其中，所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集中的訓(xùn)練圖像是沒有馬賽克區(qū)域的原圖像；

基于所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集中的訓(xùn)練圖像對待訓(xùn)練圖像修復(fù)模型進行訓(xùn)練，基于所述驗證數(shù)據(jù)集中的驗證圖像對訓(xùn)練后的圖像修復(fù)模型進行驗證，直至訓(xùn)練后的圖像修復(fù)模型收斂且驗證結(jié)果滿足預(yù)設(shè)條件，將訓(xùn)練后的圖像修復(fù)模型確定為所述圖像修復(fù)模型，其中，訓(xùn)練的過程包括：

將訓(xùn)練數(shù)據(jù)集中的訓(xùn)練圖像輸入到待訓(xùn)練圖像修復(fù)模型中，通過所述待訓(xùn)練圖像修復(fù)模型生成與訓(xùn)練圖像對應(yīng)的帶mask區(qū)域的masked圖像；

通過所述待訓(xùn)練圖像修復(fù)模型對訓(xùn)練圖像對應(yīng)的masked圖像進行修復(fù)，得到修復(fù)后的圖像；

基于訓(xùn)練數(shù)據(jù)集中的訓(xùn)練圖像和訓(xùn)練圖像對應(yīng)的修復(fù)后的圖像之間的相似度，確定訓(xùn)練后的圖像修復(fù)模型是否收斂。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過所述圖像修復(fù)模型生成與所述待修復(fù)圖像對應(yīng)的被掩碼masked圖像，包括：

通過所述圖像修復(fù)模型檢測所述待修復(fù)圖像中的所述待修復(fù)馬賽克區(qū)域；

根據(jù)檢測出的所述待修復(fù)馬賽克區(qū)域，生成與所述待修復(fù)圖像對應(yīng)的mask圖像；

根據(jù)所述待修復(fù)圖像，以及與所述待修復(fù)圖像對應(yīng)的所述mask圖像，生成與所述待修復(fù)圖像對應(yīng)的masked圖像；

其中，與任一圖像對應(yīng)的mask圖像滿足：

與所述任一圖像大小相同，圖像中的mask區(qū)域的像素值根據(jù)所述設(shè)定值確定，圖像中除mask區(qū)域之外的區(qū)域為黑色。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述設(shè)定值為白色所對應(yīng)的像素值。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述驗證數(shù)據(jù)集中的驗證圖像對訓(xùn)練后的圖像修復(fù)模型進行驗證，包括：

將所述驗證圖像輸入至所述收斂的圖像修復(fù)模型中，通過所述收斂的圖像修復(fù)模型生成與所述驗證圖像對應(yīng)的masked圖像；

基于所述驗證圖像，以及所述驗證圖像對應(yīng)的masked圖像，對所述收斂的圖像修復(fù)模型進行驗證；

其中，與所述訓(xùn)練圖像或所述驗證圖像對應(yīng)的masked圖像滿足：

與所述訓(xùn)練圖像或所述驗證圖像大小相同，圖像中的mask區(qū)域的像素值為所述設(shè)定值，圖像中除mask區(qū)域之外的區(qū)域的像素值為所述訓(xùn)練圖像或所述驗證圖像中對應(yīng)區(qū)域的像素值。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，通過所述待訓(xùn)練圖像修復(fù)模型生成與所述訓(xùn)練圖像對應(yīng)的masked圖像，包括：

由所述待訓(xùn)練圖像修復(fù)模型生成與所述訓(xùn)練圖像對應(yīng)的mask圖像；

根據(jù)所述訓(xùn)練圖像，以及與所述訓(xùn)練圖像對應(yīng)的mask圖像，生成與所述訓(xùn)練圖像對應(yīng)的masked圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述訓(xùn)練數(shù)據(jù)集中的訓(xùn)練圖像對待訓(xùn)練圖像修復(fù)模型進行訓(xùn)練之前，所述方法還包括：

將所述圖像數(shù)據(jù)集中的圖像轉(zhuǎn)換成設(shè)定大小；

所述通過所述圖像修復(fù)模型生成與所述待修復(fù)圖像對應(yīng)的被掩碼masked圖像之前，包括：

將所述待修復(fù)圖像轉(zhuǎn)換成所述設(shè)定大小。