[發(fā)明專利]對(duì)校準(zhǔn)物體兩相對(duì)側(cè)成像的視覺系統(tǒng)的場(chǎng)校準(zhǔn)系統(tǒng)和方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811190074.0
• 申請(qǐng)日: 2018-10-12
• 公開（公告）號(hào): CN109672878A
• 公開（公告）日: 2019-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·S·沃勒克;R·A·沃爾夫;D·J·邁克爾;R·王;朱紅衛(wèi)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 康耐視公司
• 主分類號(hào): H04N17/00
• 分類號(hào): H04N17/00;G06T7/80;H04N13/246
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 鄭勇

1.一種校準(zhǔn)目標(biāo)，包括：

基部，所述基部限定第一側(cè)和相對(duì)的第二側(cè)；

從第一側(cè)突出的第一三維元件，所述第一三維元件具有第一頂部；

從第二側(cè)突出的第二三維元件，所述第二三維元件具有第二頂部；以及

相對(duì)于第一側(cè)定位的第一平面和相對(duì)于第二側(cè)定位的第二平面，其中基于一加工程序，該加工程序使用第一頂面作為利用該加工程序形成第二頂面的基礎(chǔ)，從而第一平面和第二平面基本平行。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中第一平面和第二平面分別位于以下的至少一個(gè)上：(a)從基部延伸的突緣，(b)基部的至少一部分，和(c)第一頂部和第二頂部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，第一平面和第二平面在它們之間具有預(yù)定的厚度，并且通過加工程序形成，在該加工程序中，第一平面是加工第二平面的基礎(chǔ)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，第一三維元件和第二三維元件中的至少一個(gè)包括平截頭體。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，第一三維元件在形狀和尺寸上與第二三維元件相似，并且第一三維元件相對(duì)于第二三維元件以共同的z軸為中心。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，平截頭體由相鄰的數(shù)字離散地識(shí)別，其中偶數(shù)位于第一側(cè)而奇數(shù)位于第二側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，加工程序配置為在第一平面和第二平面之間限定預(yù)定間隔。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，第一平面件和第二平面中的至少一個(gè)是磨平面或刨平面之一。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，第一元件和第二元件中的至少一個(gè)限定紋理化表面，所述紋理化表面在其上漫射入射光。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，其中，基部包括與第一三維元件相鄰形成的離散第一標(biāo)記和與第二三維元件相鄰形成的離散第二標(biāo)記。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)目標(biāo)，還包括：(a)多個(gè)從第一側(cè)突出的第一三維元件，其中第一三維元件分別具有限定平面的第一頂面，以及(b)多個(gè)從第二側(cè)突出的第二三維元件，其中第二三維元件分別具有限定平面的第二頂面。

12.一種用于校準(zhǔn)視覺系統(tǒng)的方法，所述視覺系統(tǒng)至少具有第一3D傳感器和第二3D傳感器，以分別對(duì)場(chǎng)景中的物體的每個(gè)相對(duì)側(cè)成像，所述方法包括以下步驟：

在場(chǎng)景內(nèi)定位校準(zhǔn)目標(biāo)，所述校準(zhǔn)目標(biāo)具有：(a)從第一側(cè)突出的第一三維元件，所述第一三維元件具有限定平面的第一頂面，以及(b)從第二側(cè)突出的第二三維元件，所述第二三維元件具有限定平面的第二頂面；其中基于一加工程序，該加工程序使用第一頂面作為利用該加工程序形成第二頂面的基礎(chǔ)，從而第一頂面和第二頂面基本平行；

利用第一攝像機(jī)組件獲取第一三維元件的第一圖像，并利用第二攝像機(jī)組件獲取第二三維元件的第二圖像；以及

基于至少第一圖像和第二圖像，定位特征，并且利用這些特征確定第一攝像機(jī)組件和第二攝像機(jī)組件的校準(zhǔn)參數(shù)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中，確定步驟包括使用頂面與底面之間的基本上平行的關(guān)系和預(yù)定距離值作為校準(zhǔn)計(jì)算的一部分。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，定位特征的步驟包括定位布置在第一側(cè)上的第一多個(gè)平截頭體的特征和布置在第二側(cè)上的第二多個(gè)平截頭體的特征。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中，定位特征的步驟包括確定分別與第一多個(gè)平截頭體和第二多個(gè)平截頭體中的平截頭體相鄰的離散標(biāo)記。