[發(fā)明專利]蒸鍍裝置及裝置保護層的制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201811185809.0
• 申請日: 2018-10-11
• 公開（公告）號: CN109161854A
• 公開（公告）日: 2019-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 魯玉泉
• 申請（專利權(quán)）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C25D11/02;C25D11/26
• 代理公司: 北京華進京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝

1.一種裝置保護層的制備方法，其特征在于，包括：

提供預(yù)設(shè)配比的第一堿性電解液并將裝置浸沒于所述第一堿性電解液中，所述第一堿性電解液中通以預(yù)設(shè)電流密度值的電流，經(jīng)第一預(yù)設(shè)時間的一級微弧氧化；

提供第二堿性電解液并將水洗一級微弧氧化后的所述裝置浸沒于所述堿性電解液中，所述第二堿性電解液中通以預(yù)設(shè)電流密度值的電流，經(jīng)第二預(yù)設(shè)時間的二級微弧氧化后生成保護層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置保護層的制備方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)電流密度值為2A/dm²-8A/dm²。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置保護層的制備方法，其特征在于，所述第一預(yù)設(shè)時間為0min-10min，所述第二預(yù)設(shè)時間為10min-30min。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置保護層的制備方法，其特征在于，所述保護層的厚度為0.6μm-150μm。

5.一種蒸鍍裝置(100)，其特征在于，包括：

坩堝(10)，包圍形成具有開口的容納腔(11)，所述坩堝(10)具有內(nèi)側(cè)面(12)、外側(cè)面(13)以及沿所述坩堝(10)厚度方向內(nèi)側(cè)面(12)與外側(cè)面(13)交界處的壁面(14)；

第一保護層(21)覆蓋所述內(nèi)側(cè)面(12)，所述第一保護層(21)的厚度為0.6μm-150μm，用于防止蒸發(fā)物料腐蝕所述內(nèi)側(cè)面(12)；

第二保護層(22)，覆蓋所述外側(cè)面(13)；以及

第三保護層(23)，覆蓋所述壁面(14)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置(100)，其特征在于，

所述第二保護層(22)的厚度為0.6μm-150μm，用于防止蒸發(fā)物料溢出后腐蝕所述外側(cè)面(13)；

所述第三保護層(23)的厚度為0.6μm-150μm，用于防止蒸發(fā)物料溢出后腐蝕所述壁面(14)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置(100)，其特征在于，所述第一保護層(21)包括至少一個臺階(211)，所述至少一個臺階(211)沿著第一方向布置，所述至少一個臺階(211)沿著第二方向的寬度依次增加，所述第一方向和所述第二方向垂直，所述至少一個臺階(211)用于防止蒸發(fā)物料溢出。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置(100)，其特征在于，所述第二保護層(22)包括至少一個鋸齒(221)，所述至少一個鋸齒(221)沿著第一方向布置，所述至少一個鋸齒的一個端面與所述外側(cè)面(13)垂直，所述至少一個鋸齒(221)沿著第二方向的寬度依次增加，所述第二方向與所述第一方向垂直，所述至少一個鋸齒(221)用于防止所述蒸發(fā)物料溢出后，腐蝕整個所述外側(cè)面(13)。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置(100)，其特征在于，所述第三保護層(23)包括至少一個凹槽(231)，所述至少一個凹槽(231)用于盛裝一部分溢出的蒸發(fā)物料。

10.根據(jù)權(quán)利要求5-9中任一項所述的蒸鍍裝置(100)，其特征在于，還包括：

蓋體(30)，與所述坩堝(10)緊密蓋合，所述蓋體(30)上開設(shè)有通孔(31)；以及

引流管(40)，穿過所述通孔(31)，深入到所述容納腔(11)的內(nèi)部，用于將蒸發(fā)后的蒸發(fā)物料導(dǎo)出。