[發明專利]一種單井地層界面埋深的計算方法及系統有效
| 申請號： | 201811185410.2 | 申請日： | 2018-10-11 |
| 公開（公告）號： | CN109214945B | 公開（公告）日： | 2022-07-05 |
| 發明（設計）人： | 謝元軍;程豪華;杜志鋒;李三明;石松彥;何光洪;余寒雷;吳早平 | 申請（專利權）人： | 中石化石油工程技術服務有限公司;中石化經緯有限公司;中石化華北石油工程有限公司;中石化經緯有限公司華北測控公司;中石化經緯有限公司華北錄井分公司 |
| 主分類號： | G06Q50/02 | 分類號： | G06Q50/02;G06F7/548 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 王學強 |
| 地址： | 100028 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 地層 界面 計算方法 系統 | ||
1.一種單井地層界面埋深的計算方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)獲取地層界面的傾角α和傾向β，W1為已鉆井，W4為未鉆井，W1井在該地層界面的交點為A，A所處的海拔為H1，W4井與該地層界面的交點為D，D點所處的井口海拔為h，A、D的坐標分別為A(X1，Y1)、D(X4，Y4)；
2)設定平面γ為過D點的水平面，過A點做平面γ的垂線，所述垂線與平面γ相交于A’點，根據A點坐標、D點所處的井口海拔h、A點所處的海拔H1、D點坐標、A’D的方位角θ、地層界面的傾角α和地層界面的傾向β計算該地層界面在D點的埋深；
該地層界面在D點的埋深MD的計算公式為：
2.根據權利要求1所述的單井地層界面埋深的計算方法，其特征在于，A’D的方位角θ的計算公式為：
3.一種單井地層界面埋深的計算系統，包括一種控制模塊，所述控制模塊包括存儲器、處理器以及存儲在所述存儲器中并可在所述處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器在執行所述計算機程序時實現的步驟包括：
1)獲取地層界面的傾角α和傾向β，W1為已鉆井，W4為未鉆井，W1井在該地層界面的交點為A，A所處的海拔為H1，W4井與該地層界面的交點為D，D點所處的井口海拔為h，A、D的坐標分別為A(X1，Y1)、D(X4，Y4)；
2)設定平面γ為過D點的水平面，過A點做平面γ的垂線，所述垂線與平面γ相交于A’點，根據A點坐標、D點所處的井口海拔h、A點所處的海拔H1、D點坐標、A’D的方位角θ、地層界面的傾角α和地層界面的傾向β計算該地層界面在D點的埋深；
該地層界面在D點的埋深MD的計算公式為：
4.根據權利要求3所述的單井地層界面埋深的計算系統，其特征在于，A’D的方位角θ的計算公式為：
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