[發(fā)明專利]一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)及含有該諧振結(jié)構(gòu)的濾波器

有效

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• 申請日: 2018-10-10
• 公開（公告）號: CN109461996B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孟慶南
• 申請（專利權(quán)）人: 香港凡谷發(fā)展有限公司
• 主分類號: H01P1/207
• 分類號: H01P1/207
• 代理公司: 武漢開元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42104
• 代理人: 黃行軍

1.一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，包括空腔和蓋板，所述空腔內(nèi)設(shè)置有介質(zhì)諧振塊、介質(zhì)支撐架，其特征在于：所述空腔為類似正方體形狀且至少一個(gè)內(nèi)壁的端面內(nèi)凹，所述介質(zhì)諧振塊為類似正方體形狀且至少一個(gè)端面外凸，所述介質(zhì)支撐架分別與所述介質(zhì)諧振塊和所述空腔內(nèi)壁連接，所述介質(zhì)諧振塊與所述介質(zhì)支撐架構(gòu)成三模介質(zhì)諧振桿，所述介質(zhì)支撐架的介電常數(shù)小于所述介質(zhì)諧振塊的介電常數(shù)；

所述空腔內(nèi)壁單邊的尺寸與其對應(yīng)的所述介質(zhì)諧振塊單邊的尺寸之間的比值K為：轉(zhuǎn)換點(diǎn)1≤K≤轉(zhuǎn)換點(diǎn)2，以使所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)的與其基模相鄰的高次模Q值轉(zhuǎn)換為所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)的基模Q值，轉(zhuǎn)換后的基模諧振頻率等于轉(zhuǎn)換前的基模諧振頻率，轉(zhuǎn)換后的基模Q值＞轉(zhuǎn)換前的基模Q值，轉(zhuǎn)換后的與基模相鄰的高次模Q值＜轉(zhuǎn)換前的與基模相鄰的高次模Q值；

所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)中設(shè)置有用于改變空腔內(nèi)簡并三模電磁場正交特性的耦合裝置；

所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)中設(shè)置有用于改變空腔內(nèi)簡并三模諧振頻率的頻率調(diào)諧裝置。

2.一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，包括空腔和蓋板，所述空腔內(nèi)設(shè)置有介質(zhì)諧振塊、介質(zhì)支撐架，其特征在于：所述空腔為類似正方體形狀且至少一個(gè)內(nèi)壁的端面外凸，所述介質(zhì)諧振塊為類似正方體形狀且至少一個(gè)端面內(nèi)凹，所述介質(zhì)支撐架分別與所述介質(zhì)諧振塊和所述空腔內(nèi)壁連接，所述介質(zhì)諧振塊與所述介質(zhì)支撐架構(gòu)成三模介質(zhì)諧振桿，所述介質(zhì)支撐架的介電常數(shù)小于所述介質(zhì)諧振塊的介電常數(shù)；

所述空腔內(nèi)壁單邊的尺寸與其對應(yīng)的所述介質(zhì)諧振塊單邊的尺寸之間的比值K為：轉(zhuǎn)換點(diǎn)1≤K≤轉(zhuǎn)換點(diǎn)2，以使所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)的與其基模相鄰的高次模Q值轉(zhuǎn)換為所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)的基模Q值，轉(zhuǎn)換后的基模諧振頻率等于轉(zhuǎn)換前的基模諧振頻率，轉(zhuǎn)換后的基模Q值＞轉(zhuǎn)換前的基模Q值，轉(zhuǎn)換后的與基模相鄰的高次模Q值＜轉(zhuǎn)換前的與基模相鄰的高次模Q值；

所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)中設(shè)置有用于改變空腔內(nèi)簡并三模電磁場正交特性的耦合裝置；

所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)中設(shè)置有用于改變空腔內(nèi)簡并三模諧振頻率的頻率調(diào)諧裝置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中所述的一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述介質(zhì)諧振塊為實(shí)心結(jié)構(gòu)或中空結(jié)構(gòu)；中空結(jié)構(gòu)的介質(zhì)諧振塊的中空部分填充有空氣或嵌套介質(zhì)諧振塊，所述嵌套介質(zhì)諧振塊的體積小于或等于中空部分的體積。

4.根據(jù)權(quán)利要求3中所述的一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述嵌套介質(zhì)諧振塊為類似正方體形狀且至少一個(gè)端面內(nèi)凹或外凸。

5.根據(jù)權(quán)利要求4中所述的一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述嵌套介質(zhì)諧振塊至少有一端面設(shè)置有薄膜介質(zhì)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述空腔的內(nèi)凹端面或/和所述介質(zhì)諧振塊的外凸端面設(shè)置有薄膜介質(zhì)。

7.根據(jù)權(quán)利要求2中所述的一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述空腔的外凸端面或/和所述介質(zhì)諧振塊的內(nèi)凹端面設(shè)置有薄膜介質(zhì)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2中所述的一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)換點(diǎn)1的值和所述轉(zhuǎn)換點(diǎn)2的值均會隨所述介質(zhì)諧振塊的基模諧振頻率、所述介質(zhì)諧振塊的介電常數(shù)、所述支撐架的介電常數(shù)的不同而產(chǎn)生變化。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2中所述的一種異形的空腔三模諧振結(jié)構(gòu)，其特征在于：保持轉(zhuǎn)換后的所述介質(zhì)諧振塊的基模諧振頻率不變時(shí)，所述三模介質(zhì)諧振結(jié)構(gòu)的Q值與所述K的取值和所述介質(zhì)諧振塊的介電常數(shù)以及和所述介質(zhì)諧振塊的尺寸有關(guān)。