[發明專利]一種異形的空腔三模諧振結構及含有該諧振結構的濾波器

有效

• 申請號: 201811179912.4
• 申請日: 2018-10-10
• 公開（公告）號: CN109461996B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 孟慶南
• 申請（專利權）人: 香港凡谷發展有限公司
• 主分類號: H01P1/207
• 分類號: H01P1/207
• 代理公司: 武漢開元知識產權代理有限公司 42104
• 代理人: 黃行軍

1.一種異形的空腔三模諧振結構，包括空腔和蓋板，所述空腔內設置有介質諧振塊、介質支撐架，其特征在于：所述空腔為類似正方體形狀且至少一個內壁的端面內凹，所述介質諧振塊為類似正方體形狀且至少一個端面外凸，所述介質支撐架分別與所述介質諧振塊和所述空腔內壁連接，所述介質諧振塊與所述介質支撐架構成三模介質諧振桿，所述介質支撐架的介電常數小于所述介質諧振塊的介電常數；

所述空腔內壁單邊的尺寸與其對應的所述介質諧振塊單邊的尺寸之間的比值K為：轉換點1≤K≤轉換點2，以使所述三模介質諧振結構的與其基模相鄰的高次模Q值轉換為所述三模介質諧振結構的基模Q值，轉換后的基模諧振頻率等于轉換前的基模諧振頻率，轉換后的基模Q值＞轉換前的基模Q值，轉換后的與基模相鄰的高次模Q值＜轉換前的與基模相鄰的高次模Q值；

所述三模介質諧振結構中設置有用于改變空腔內簡并三模電磁場正交特性的耦合裝置；

所述三模介質諧振結構中設置有用于改變空腔內簡并三模諧振頻率的頻率調諧裝置。

2.一種異形的空腔三模諧振結構，包括空腔和蓋板，所述空腔內設置有介質諧振塊、介質支撐架，其特征在于：所述空腔為類似正方體形狀且至少一個內壁的端面外凸，所述介質諧振塊為類似正方體形狀且至少一個端面內凹，所述介質支撐架分別與所述介質諧振塊和所述空腔內壁連接，所述介質諧振塊與所述介質支撐架構成三模介質諧振桿，所述介質支撐架的介電常數小于所述介質諧振塊的介電常數；

所述空腔內壁單邊的尺寸與其對應的所述介質諧振塊單邊的尺寸之間的比值K為：轉換點1≤K≤轉換點2，以使所述三模介質諧振結構的與其基模相鄰的高次模Q值轉換為所述三模介質諧振結構的基模Q值，轉換后的基模諧振頻率等于轉換前的基模諧振頻率，轉換后的基模Q值＞轉換前的基模Q值，轉換后的與基模相鄰的高次模Q值＜轉換前的與基模相鄰的高次模Q值；

所述三模介質諧振結構中設置有用于改變空腔內簡并三模電磁場正交特性的耦合裝置；

所述三模介質諧振結構中設置有用于改變空腔內簡并三模諧振頻率的頻率調諧裝置。

3.根據權利要求1或2中所述的一種異形的空腔三模諧振結構，其特征在于：所述介質諧振塊為實心結構或中空結構；中空結構的介質諧振塊的中空部分填充有空氣或嵌套介質諧振塊，所述嵌套介質諧振塊的體積小于或等于中空部分的體積。

4.根據權利要求3中所述的一種異形的空腔三模諧振結構，其特征在于：所述嵌套介質諧振塊為類似正方體形狀且至少一個端面內凹或外凸。

5.根據權利要求4中所述的一種異形的空腔三模諧振結構，其特征在于：所述嵌套介質諧振塊至少有一端面設置有薄膜介質。

6.根據權利要求1中所述的一種異形的空腔三模諧振結構，其特征在于：所述空腔的內凹端面或/和所述介質諧振塊的外凸端面設置有薄膜介質。

7.根據權利要求2中所述的一種異形的空腔三模諧振結構，其特征在于：所述空腔的外凸端面或/和所述介質諧振塊的內凹端面設置有薄膜介質。

8.根據權利要求1或2中所述的一種異形的空腔三模諧振結構，其特征在于：所述轉換點1的值和所述轉換點2的值均會隨所述介質諧振塊的基模諧振頻率、所述介質諧振塊的介電常數、所述支撐架的介電常數的不同而產生變化。

9.根據權利要求1或2中所述的一種異形的空腔三模諧振結構，其特征在于：保持轉換后的所述介質諧振塊的基模諧振頻率不變時，所述三模介質諧振結構的Q值與所述K的取值和所述介質諧振塊的介電常數以及和所述介質諧振塊的尺寸有關。