[發明專利]加氫氣化半焦制漿裝置及其穩定運行方法在審
| 申請號: | 201811171605.1 | 申請日: | 2018-10-09 |
| 公開(公告)號: | CN110354741A | 公開(公告)日: | 2019-10-22 |
| 發明(設計)人: | 馮浩;李美喜;李維;張剛;王鳳彬;王銀明 | 申請(專利權)人: | 新能能源有限公司 |
| 主分類號: | B01F13/10 | 分類號: | B01F13/10;B01F7/18;C10B55/00;C10L3/08 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 014300 內蒙古自治*** | 國省代碼: | 內蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半焦 文丘里混合器 制漿攪拌 新鮮水 加氫氣化 氣力輸送 穩定運行 制漿裝置 打濕 氣力輸送裝置 攪拌制漿 制漿效果 調漿罐 罐液面 水中 制漿 新鮮 | ||
1.加氫氣化半焦制漿裝置,其特征在于,其包括制漿攪拌罐,所述制漿攪拌罐的進料口處設有文丘里混合器,所述文丘里混合器的一個進口與氣力輸送裝置的出口連接,所述文丘里混合器的另一個進口與新鮮水管網之間通過新鮮水泵連接,所述制漿攪拌罐的出口通過半焦漿泵與調漿罐的進口連接,所述調漿罐的出口分別與所述制漿攪拌罐的回流口、水煤漿氣化原料管道的進口連接;所述文丘里混合器的出口置于所述制漿攪拌罐的液面下方,所述調漿罐的出口至所述回流口之間的管路上設有回流控制閥,所述水煤漿氣化原料管道上設有輸送控制閥;所述調漿罐與所述制漿攪拌罐的體積比大于等于2:1;
所述制漿攪拌罐的頂部設有半焦處理腔,所述半焦處理腔的底部與所述制漿攪拌罐的頂部連接,所述半焦處理腔的頂部設有排空管,所述半焦處理腔內交錯設有至少兩個優弧弓形的塔盤,所述塔盤的弦長邊關于所述半焦處理腔的豎直中心線對稱,所述塔盤的圓弧邊與所述半焦處理腔的內側壁固定連接,所述塔盤上均布有通孔,最上層所述塔盤上方的所述半焦處理腔與所述新鮮水管網通過逆流管連接。
2.根據權利要求1所述的加氫氣化半焦制漿裝置,其特征在于,所述氣力輸送裝置包括半焦輸送管和壓縮空氣源,所述半焦輸送管的進口與半焦倉之間通過旋轉給料閥連接,所述半焦輸送管的出口與所述文丘里混合器的一個進口連接,所述半焦輸送管與所述壓縮空氣源之間通過壓縮空氣管連接;所述半焦倉的進口與半焦螺旋輸送機的出口連接,所述半焦螺旋輸送機的進口與半焦磨機的合格品出口連接。
3.根據權利要求1或2任一所述的加氫氣化半焦制漿裝置,其特征在于,所述塔盤水平設置,所述塔盤數量為4-6個,相鄰的兩層塔盤之間設有降液管,所述降液管的進口側與上層所述塔盤和所述半焦處理腔內壁之間形成的空隙連接,所述降液管的進口置于上層所述塔盤的上方,所述降液管的底部與下層所述塔盤連接,所述降液管的出口置于下層所述塔盤的上方。
4.根據權利要求1所述的加氫氣化半焦制漿裝置,其特征在于,所述排空管下方的所述半焦處理腔內設有除沫器,所述除沫器的邊沿與所述半焦處理腔的內側壁固定連接。
5.根據權利要求1所述的加氫氣化半焦制漿裝置,其特征在于,所述制漿攪拌罐內設有制漿攪拌器,所述制漿攪拌器的轉動軸頂部穿過所述制漿攪拌罐頂部與制漿轉動電機的輸出軸固定連接;所述調漿罐內設有調漿攪拌器,所述調漿攪拌器的轉動軸頂部穿過所述調漿罐頂部與調漿轉動電機的輸出軸固定連接。
6.加氫氣化半焦制漿裝置穩定運行方法,其特征在于,半焦經氣力輸送至文丘里混合器內與輸送至所述文丘里混合器內的工業新鮮水進行混合,得到預制漿;所述預制漿進入制漿攪拌罐內進行攪拌,攪拌速度為30-50r/min;在攪拌的過程中,向半焦處理腔內通入工業新鮮水,工業新鮮水沿著塔盤上表面流動,在所述塔盤上表面形成一層水膜,部分未與所述制漿攪拌罐內的工業新鮮水混合成漿的半焦隨著氣力輸送的壓縮氣進入所述半焦處理腔內,半焦經由所述塔盤的通孔向上運動與所述塔盤上的水膜接觸,并隨著所述塔盤上表面流動的工業新鮮水回流至所述制漿攪拌罐內,攪拌得到的半焦漿料;所述半焦漿料由半焦漿泵泵入調漿罐內,在所述調漿罐內對所述半焦漿料進行攪拌,得到合格半焦漿,所述合格半焦漿的濃度為30%-35%;所述合格半焦漿一部分回流至所述制漿攪拌罐內以維持所述制漿攪拌罐內的液位為所述制漿攪拌罐體積的60-80%,其余所述合格半焦漿輸送至水煤漿氣化系統。
7.根據權利要求6所述的加氫氣化半焦制漿裝置穩定運行方法,其特征在于,所述氣力輸送的壓力為0.5-0.7MPa,所述制漿攪拌罐運行壓力為0.1-0.2MPa。
8.根據權利要求6所述的加氫氣化半焦制漿裝置穩定運行方法,其特征在于,經所述氣力輸送的半焦與通入所述文丘里混合器內的工業新鮮水的質量比為1:0.8-1.2,經所述氣力輸送的半焦與通入所述半焦處理腔內的工業新鮮水的質量比為1:0.8-1.2。
9.根據權利要求6所述的加氫氣化半焦制漿裝置穩定運行方法,其特征在于,進入所述半焦處理腔內的所述壓縮氣經除沫處理后,由所述半焦處理腔頂部的排空管排出。
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