[發明專利]基于掩模版圖形處理的光強分布快速確定方法及裝置

有效

• 申請號: 201811157255.3
• 申請日: 2018-09-30
• 公開（公告）號: CN109164683B
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發明（設計）人: 閻江;梁文青
• 申請（專利權）人: 墨研計算科學（南京）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G06F30/392
• 代理公司: 北京弘權知識產權代理事務所(普通合伙) 11363
• 代理人: 逯長明;許偉群

1.一種基于掩模版圖形處理的光強分布快速確定方法，其特征在于，所述方法包括：

根據光源函數和光瞳函數，建立交叉傳遞函數；

對所述交叉傳遞函數進行奇異值分解，得到至少一個頻域核函數；

確定掩模版圖形劃分成的至少一個矩形，以及所述至少一個矩形中每個矩形的特征信息，所述特征信息包括：矩形的長，矩形的寬和矩形中心的坐標；

確定所述每個矩形各自對應的矩形投影系數和所述至少一個頻域核函數中每個頻域核函數各自對應的核函數投影系數，其中，所述矩形投影系數和所述核函數投影系數是指終端利用數值積分運算將頻域上的矩形函數即sinc函數和頻域核函數投影到傅里葉貝塞爾基函數得到的投影系數；

根據所述矩形投影系數，所述核函數投影系數和所述每個矩形的特征信息，確定用戶指定位置上的光強分布。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述確定所述每個矩形各自對應的矩形投影系數和所述至少一個頻域核函數中每個頻域核函數各自對應的核函數投影系數，包括：

根據如下關系式計算所述矩形投影系數

其中，α_ns為所述矩形投影系數，h表示所述矩形的長，w表示所述矩形的寬，J_n表示第一類n階貝賽爾函數，λ_ns表示第一類n階貝賽爾函數的第s個零根，f_j和g_j表示頻域離散采樣點的坐標；

根據如下關系式計算所述每個頻域核函數各自對應的核函數投影系數

其中，為所述至少一個頻域核函數中第k個頻域核函數對應的核函數投影系數，Φ_k(f_j,g_j)表示所述至少一個頻域核函數中第k個頻域核函數在(f_j,g_j)上的值，J_m表示第一類m階貝賽爾函數，λ_mt表示第一類m階貝賽爾函數的第t個零根。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述矩形投影系數，所述核函數投影系數和所述每個矩形的特征信息，確定用戶指定位置上的光強分布，包括：

根據如下關系式確定所述用戶指定位置上的光強分布

其中，I(x,y)表示用戶指定位置(x,y)上的光強分布，α_ns為所述矩形投影系數，為所述至少一個頻域核函數中第k個頻域核函數對應的核函數投影系數，Δx和Δy表示所述矩形中心的坐標，C_n+m,q(x,y)表示空間域上的n+m階q零根的正交基函數，γ_n+m,q為基函數乘積投影系數，γ_n+m,q是將傅里葉貝塞爾基函數的乘積投影到傅里葉貝塞爾基函數上得到的投影系數。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據所述矩形投影系數，所述核函數投影系數和所述每個矩形的特征信息，確定用戶指定位置上的光強分布之前，還包括：

根據如下關系式確定所述基函數乘積投影系數

其中，FB_ns(f_j,g_j)表示n階s零根的傅里葉貝塞爾基函數在(f_j,g_j)上的值，FB_mt(f_j,g_j)表示m階t零根的傅里葉貝塞爾基函數在(f_j,g_j)上的值，表示n+m階q零根的傅里葉貝塞爾基函數的共軛函數在(f_j,g_j)上的值。