[發(fā)明專利]活動式并能形成交錯紋路的基板

在審

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• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN110965734A
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發(fā)明（設計）人: 林志濱
• 申請（專利權）人: 林志濱
• 主分類號: E04F15/024
• 分類號: E04F15/024;E04F15/18;E04F15/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張宇園

1.一種活動式并能形成交錯紋路的基板，該基板上包含有：

至少一第一區(qū)域，該第一區(qū)域呈一條長條狀；以及

至少一第二區(qū)域，與該第一區(qū)域沿一第一方向相鄰設置，并與該第一區(qū)域沿一與該第一方向垂直的第二方向形成錯位，使該第一區(qū)域與該第二區(qū)域在該第二方向上形成有一段差。

2.根據(jù)權利要求1所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該基板進一步是由一板體以及一設置于該板體下方的加強底板所組成，該第一區(qū)域與該第二區(qū)域設置于該板體上。

3.根據(jù)權利要求2所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該板體上還設置有兩個該第一區(qū)域以及一個該第二區(qū)域，兩個該第一區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔，該第二區(qū)域設置在間隔的兩個該第一區(qū)域之間。

4.根據(jù)權利要求2所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該板體上還設置有兩個該第一區(qū)域以及兩個該第二區(qū)域，兩個該第一區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔，兩個該第二區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔，且兩個該第一區(qū)域與兩個該第二區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔交錯設置。

5.根據(jù)權利要求2所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該板體上還設置有兩個該第一區(qū)域以及三個該第二區(qū)域，兩個該第一區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔，三個該第二區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔，且兩個該第一區(qū)域與三個該第二區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔交錯設置。

6.根據(jù)權利要求2所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該板體上還設置有三個該第一區(qū)域以及三個該第二區(qū)域，三個該第一區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔，三個該第二區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔，且三個該第一區(qū)域與三個該第二區(qū)域沿該第一方向彼此相互間隔交錯設置。

7.根據(jù)權利要求1所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該基板進一步是由一個第一板體以及一個與該第一板體相鄰設置的第二板體所組成。

8.根據(jù)權利要求7所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該第一區(qū)域設置在該第一板體上，該第二區(qū)域設置在該第二板體上。

9.根據(jù)權利要求7所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中，該第一板體上設置有至少一個該第一區(qū)域以及一個該第二區(qū)域，該第二板體上同樣的設置有一個該第一區(qū)域以及一個該第二區(qū)域。

10.根據(jù)權利要求1-9中任一項所述的活動式并能形成交錯紋路的基板，其中該基板上還包含有多個貫穿該基板的定位孔。