[發明專利]一種適用于人臉識別系統的光學成像系統

在審

• 申請號: 201811151497.1
• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN109001893A
• 公開（公告）日: 2018-12-14
• 發明（設計）人: 吳劉森;陳藝敏;陳藝龍;韓春
• 申請（專利權）人: 蘇州萊能士光電科技股份有限公司
• 主分類號: G02B13/00
• 分類號: G02B13/00;G02B1/00;G02B7/02;G06K9/00
• 代理公司: 蘇州市港澄專利代理事務所(普通合伙) 32304
• 代理人: 馬麗麗

1.一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，沿光軸方向從物面一側至像面一側依次設置有第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、孔徑光闌、第四透鏡、第五透鏡、第六透鏡和像面；其特征在于：所述第一透鏡為雙凸型負透鏡，所述第二透鏡為彎月型負透鏡，所述第三透鏡為雙凸型正透鏡，所述第四透鏡為雙凹型負透鏡，所述第五透鏡為雙凸型正透鏡，所述第六透鏡為雙凸型正透鏡。

2.根據權利要求1所述的一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，其特征在于：所述光學成像系統滿足：

-9mm≤f₁≤-8mm

-26mm≤f₂≤-24mm

7mm≤f₃≤8mm

-9mm≤f₄≤-8mm

19mm≤f₅≤20mm

10mm≤f₆≤11mm

其中：f₁為第一透鏡的焦距，f₂為第二透鏡的焦距，f₃為第三透鏡的焦距，f₄為第四透鏡的焦距，f₅為第五透鏡的焦距，f₆為第六透鏡的焦距。

3.根據權利要求1所述的一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，其特征在于：所述光學系統采取多重架構方式進行兼顧，在光學優化時，設置4個物距，分別為200mm、300mm、400mm和500mm。

4.根據權利要求1所述的一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，其特征在于：所述像面與第六透鏡的光學間隔為6.2mm。

5.根據權利要求1所述的一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，其特征在于：所述光學成像系統的光圈大小為2.2mm。

6.根據權利要求1所述的一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，其特征在于：所述第四透鏡和第五透鏡為一組光學膠合透鏡組。

7.根據權利要求7所述的一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，其特征在于：所述第一透鏡和第二透鏡的光學間隔為0.86mm，所述第二透鏡和第三透鏡的光學間隔為1.57mm，所述第三透鏡和孔徑光闌的光學間隔為1.76mm，所述孔徑光闌與第四透鏡的光學間隔為0.53mm，所述第五透鏡和第六透鏡的光學間隔為0.12mm。

8.根據權利要求1所述的一種適用于人臉識別系統的光學成像系統，其特征在于：所述第一透鏡由H-K9L制成，所述第二透鏡由H-ZK9B制成，所述第三透鏡由H-ZF13制成，所述第四透鏡由H-ZBAF50制成，所述第五透鏡由H-ZF12制成，所述第六透鏡由H-ZK9B制成。