[發(fā)明專利]聚合物-石墨復合膜及其制備方法和應用

在審

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• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN108948399A
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發(fā)明（設計）人: 吳國明
• 申請（專利權）人: 江蘇墨泰新材料有限公司
• 主分類號: C08J7/06
• 分類號: C08J7/06;C08J7/12;C08L67/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 侯小鋒

本發(fā)明提供了一種聚合物?石墨復合膜及其制備方法和應用，涉及復合膜技術領域，所述聚合物?石墨復合膜包括聚合物膜，所述聚合物膜表面復合有石墨膜，緩解了現(xiàn)有聚合物膜耐腐蝕和耐高溫性差，導致其無法用于耐腐蝕和耐高溫制品的技術問題。本發(fā)明提供的聚合物?石墨復合膜，通過在聚合物膜上復合石墨膜，使得聚合物膜和石墨膜相互協(xié)同，不僅具有優(yōu)異的耐腐蝕性能和耐高溫性能，而且還具有防雷擊和防眩光功能，同時還具有隔熱功能，使其能夠應用于更多領域。

技術領域

本發(fā)明涉及復合膜技術領域，尤其是涉及一種聚合物-石墨復合膜及其制備方法和應用。

背景技術

聚合物膜具有優(yōu)異的物理性能和化學性能及可回收性，被廣泛應用于食品、醫(yī)藥、化工和電子等行業(yè)，但是現(xiàn)有的聚合物膜耐腐蝕和耐高溫性差，導致其無法用于耐腐蝕制品和耐高溫制品中。

有鑒于此，特提出本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的之一在于提供一種聚合物-石墨復合膜，以緩解現(xiàn)有聚合物膜耐腐蝕和耐高溫性差，導致其無法用于耐腐蝕和耐高溫制品的技術問題。

本發(fā)明提供的聚合物-石墨復合膜包括聚合物膜，所述聚合物膜表面復合有石墨膜。

進一步的，所述聚合物膜選自聚酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚氯乙烯膜和聚苯乙烯膜中的一種，優(yōu)選為聚酯膜。

本發(fā)明的目的之二在于提供一種聚合物-石墨復合膜的制備方法，包括如下步驟：

(a)將聚合物膜進行等離子處理；

(b)在等離子處理后的聚合物膜上濺鍍石墨膜；

優(yōu)選地，所述聚合物膜選自聚酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜、聚氯乙烯膜和聚苯乙烯膜中的一種，優(yōu)選為聚酯膜。

進一步的，在步驟(b)中，采用磁控濺射儀在等離子處理后的聚合膜上濺鍍石墨膜；

優(yōu)選地，采用石墨膜-金屬復合材料作為靶材在聚合物膜上濺鍍石墨膜；

優(yōu)選地，在進行石墨膜濺鍍時，聚合物膜的旋轉(zhuǎn)速度為15-25r/min，優(yōu)選為20r/min。

進一步的，所述石墨膜-金屬復合材料的制備方法包括如下步驟：在石墨膜的表面濺鍍金屬，得到石墨膜-金屬復合材料；

優(yōu)選地，所述金屬選自銅、銀和鋁中的一種，優(yōu)選為銅。

進一步的，所述石墨膜的制備方法包括如下步驟：將原膜依次進行碳化和石墨化處理，得到石墨膜；

優(yōu)選地，所述原膜為聚酰亞胺膜或聚酰胺膜；

優(yōu)選地，還包括壓延處理步驟，所述壓延處理步驟設置于原膜石墨化處理之后。

進一步的，碳化處理采用階段升溫方式進行；

優(yōu)選地，階段升溫包括如下步驟：

(s₁)第一階段：溫度由室溫升至280-320℃，升溫時間為35-45min；

(s₂)第二階段：溫度由280-320℃升至450-500℃，升溫時間為40-50min，且溫度升至450-500℃后隔熱25-35min；

(s₃)第三階段：溫度由450-500℃升至580-620℃，升溫時間為415-425min；

(s₄)第四階段：溫度由580-620℃升溫至680-720℃，升溫時間為235-245min；

(s₅)第五階段：溫度由680-720℃升溫至880-920℃，升溫時間為195-205min；