[發(fā)明專利]顯示面板、顯示模組及電子裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811149095.8 | 申請日: | 2018-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN109061956A | 公開(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高玲 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 隔墊物 顯示面板 彩膜基板 第二基板 第一基板 電子裝置 顯示模組 陣列基板 公共電極層 顯示效果 相對設(shè)置 申請 | ||
本申請?zhí)岢隽艘环N顯示面板、顯示模組及電子裝置,所述顯示面板包括:陣列基板,包括第一基板及位于所述第一基板上的第一公共電極層;彩膜基板,與所述陣列基板相對設(shè)置,所述彩膜基板包括第二基板及位于所述第二基板上的隔墊物。所述隔墊物包括第一隔墊物和第二隔墊物,所述第一隔墊物的高度不小于所述第二隔墊物的高度。本申請通過設(shè)置不同高度的所述隔墊物,消除了部分隔墊物與彩膜基板之間的間隙,改善了顯示面板的顯示效果,提高了顯示面板的品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示領(lǐng)域,特別涉及一種顯示面板、顯示模組及電子裝置。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有的顯示面板中,顯示面板包括陣列基板、彩膜基板及位于二者之間的隔墊物。隔墊物作為重要的組成部分,一直都是設(shè)計時需要做特殊考量的。隔墊物的主要作用是支撐上下基板,使陣列基板與彩膜基板保持固定的間距。隔墊物本身的材料特性決定其有一定的壓縮比例,使面板在搬運或者按壓時可以出現(xiàn)適當(dāng)?shù)男》秶g距調(diào)整。
陣列基板包括呈陣列分布的公共電極板。在行方向上,相鄰公共電極板之間存在一定間距的凹槽。因此,部分所述隔墊物將設(shè)置在所述凹槽內(nèi),導(dǎo)致部分所述隔墊物與彩膜基板之間存在一定的間隙,使得顯示面板部分區(qū)域顯示不均,影響顯示面板的品質(zhì)。
發(fā)明內(nèi)容
本申請?zhí)峁┮环N顯示面板、顯示模組及電子裝置,以解決現(xiàn)有顯示面板顯示不均勻的技術(shù)問題。
為解決上述問題,本申請?zhí)峁┑募夹g(shù)方案如下:
本申請?zhí)岢隽艘环N顯示面板,其包括:
陣列基板,包括第一基板及位于所述第一基板上的第一公共電極層;
彩膜基板,與所述陣列基板相對設(shè)置,所述彩膜基板包括第二基板及位于所述第二基板上的隔墊物;
其中,所述隔墊物包括第一隔墊物和第二隔墊物,所述第一隔墊物的高度不小于所述第二隔墊物的高度。
在本申請的顯示面板中,所述第一公共電極層包括至少兩個公共電極板,相鄰兩所述公共電極板之間設(shè)置有一凹槽;
其中,所述第一隔墊物的高度大于所述第二隔墊物的高度,所述第一隔墊物位于所述凹槽上。
在本申請的顯示面板中,所述第一隔墊物包括第一部分和第二部分,所述第一部分靠近所述第二基板,所述第二部分遠(yuǎn)離所述第二基板;
其中,所述第一部分包括遠(yuǎn)離所述第二基板的第一平面,所述第二部分在所述第一平面上的正投影位于所述第一平面內(nèi)。
在本申請的顯示面板中,所述第二部分位于所述凹槽內(nèi),所述第二部分的寬度不大于相鄰兩所述公共電極板之間的所述凹槽的間距。
在本申請的顯示面板中,所述第二部分的剖面圖為正方形、長方形或梯形中的至少一種。
在本申請的顯示面板中,所述第二隔墊物位于所述公共電極板上,部分所述公共電極板對應(yīng)至少一所述第二隔墊物。
在本申請的顯示面板中,所述第一隔墊物的第一部分與所述第二隔墊物的形狀相同。
在本申請的顯示面板中,所述顯示面板還包括位于所述第一公共電極板上的保護(hù)層,所述保護(hù)層遠(yuǎn)離所述第一基板的表面為一平整的表面;
其中,所述第一隔墊物的高度與所述第二隔墊物的高度相同。
本申請還提出了一種顯示模組,所述顯示模組包括上述顯示面板。
本申請還提出了一種電子裝置,所述電子裝置包括上述顯示模組。
有益效果為:本申請通過設(shè)置不同高度的所述隔墊物,消除了部分隔墊物與彩膜基板之間的間隙,改善了顯示面板的顯示效果,提高了顯示面板的品質(zhì)。
附圖說明
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





