[發明專利]一種高強度耐紫外線的芳雜環聚合物薄膜及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 201811145334.2
• 申請日: 2018-09-29
• 公開（公告）號: CN109293894A
• 公開（公告）日: 2019-02-01
• 發明（設計）人: 王庭輝;劉文熙;潘鑫
• 申請（專利權）人: 王庭輝;劉文熙;潘鑫
• 主分類號: C08G61/12
• 分類號: C08G61/12;C08K3/34;C08K3/04;C08K3/36;C08J5/18
• 代理公司: 東莞市十方專利代理事務所(普通合伙) 44391
• 代理人: 黃云

本發明涉及薄膜技術領域，具體涉及一種高強度耐紫外線的芳雜環聚合物薄膜及其制備方法和應用，所述芳雜環聚合物薄膜由芳雜環聚合物樹脂經酸浴濕法拉伸成膜工藝制得,所述芳雜環聚合物樹脂的制備方法為：以對苯二甲酸和/或鄰苯二甲酸、偶氮苯?4,4’?二甲酸和/或偶氮苯?3,3’?二甲酸、硫酸肼為反應原料，在發煙硫酸中進行縮聚反應，得到所述芳雜環聚合物樹脂。本發明的芳雜環聚合物薄膜具有較高的強度和優異的耐紫外線性能，還具有良好的尺寸穩定性、耐熱性、耐氧化、電絕緣、耐溶劑性、特殊的導電性以及電致發光等性能，綜合性能優異。

技術領域

本發明涉及薄膜技術領域，具體涉及一種高強度耐紫外線的芳雜環聚合物薄膜及其制備方法和應用。

背景技術

雜環化合物環狀有機化合物中，構成環的原子除碳原子外還有其他原子時，這類環狀有機化合物叫作雜環化合物，非碳原子稱為雜原子。最常見的雜原子是氧和硫，雜環上可以有一個雜原子，也可以有兩個或更多個雜原子，雜原子可以是一種原子，也可以是兩種不同的原子。和環烷烴一樣，雜環也可以分為脂雜環和芳雜環兩大類。一般來說，芳雜環的環系都有一定程度的穩定性和芳香性，在一般化學反應中，環不易破裂。部分芳雜環可以聚合成高分子樹脂，由于其獨特的優良性能而具有廣泛的潛在應用價值。

發明內容

為了克服現有技術中存在的缺點和不足，本發明的目的在于提供一種高強度耐紫外線的芳雜環聚合物薄膜，該芳雜環聚合物薄膜具有較高的強度和優異的耐紫外線性能，還具有良好的尺寸穩定性、耐熱性、耐氧化、電絕緣、耐溶劑性、特殊的導電性以及電致發光等性能，綜合性能優異。

本發明的另一個目的在于提供一種高強度耐紫外線的芳雜環聚合物薄膜的制備方法，該制備方法步驟簡單，操作控制方便，質量穩定，生產效率高，生產成本低，可大規模化工業生產。

本發明的還一個目的在于提供一種高強度耐紫外線的芳雜環聚合物薄膜的應用。

本發明的目的通過下述技術方案實現：一種高強度耐紫外線的芳雜環聚合物薄膜，所述芳雜環聚合物薄膜包括芳雜環聚合物樹脂，所述芳雜環聚合物樹脂包括以A_m-B_n表示的聚合物鏈，其中，A和B均為構成聚合物鏈主鏈的重復單元，且重復單元A、B以任意順序排列，m和n均為正整數；

所述重復單元A的結構式為：

所述重復單元B的結構式為：

優選的，所述主鏈中具有無規共聚物構型、交替共聚物構型或嵌段共聚物構型，即，所述芳雜環聚合物樹脂的聚合方式可以為無規共聚、交替共聚或嵌段共聚。

優選的，所述芳雜環聚合物樹脂的制備方法為：以對苯二甲酸和/或鄰苯二甲酸、偶氮苯-4,4’-二甲酸和/或偶氮苯-3,3’-二甲酸、硫酸肼為反應原料，在發煙硫酸中進行縮聚反應，得到所述芳雜環聚合物樹脂。

具體的，聚合單體(對苯二甲酸和/或鄰苯二甲酸、偶氮苯-4,4’-二甲酸和/或偶氮苯-3,3’-二甲酸)、硫酸肼和發煙硫酸的摩爾比為1：(1.01-5.0)：(5-15)，其中發煙硫酸摩爾數以發煙硫酸中SO₃摩爾數計。

其中，聚合單體(對苯二甲酸和/或鄰苯二甲酸)與聚合單體(偶氮苯-4,4’-二甲酸和/或偶氮苯-3,3’-二甲酸)的摩爾比為(0.01-0.99)：(0.99-0.01)。為了節省成本，優選的，聚合單體(對苯二甲酸和/或鄰苯二甲酸)與聚合單體(偶氮苯-4,4’-二甲酸和/或偶氮苯-3,3’-二甲酸)的摩爾比為(0.90-0.99)：(0.10-0.01)。