[發明專利]保護膜

有效

• 申請號: 201811141844.2
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN109207086B
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: 冒樓民;李冠毅;丁清華
• 申請（專利權）人: 張家港康得新光電材料有限公司
• 主分類號: C09J7/38
• 分類號: C09J7/38;C09J7/25;C09J7/24
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 韓建偉;白雪

1.一種保護膜，包括膜基材和位于所述膜基材的一側表面上的壓敏膠層，其特征在于，所述壓敏膠層包括第一膠區和位于所述第一膠區外圍的第二膠區，所述第二膠區的部分或全部的遠離所述膜基材的一側表面上設置有減粘層，所述減粘層的原料包括以硅氧鍵為主鏈的低聚物，所述壓敏膠層的原料包括反應型聚硅氧烷，且所述減粘層的達因值小于所述壓敏膠層的達因值；

所述減粘層的原料包括具有式I所示結構的低聚物：

所述式I中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆及R₇均為惰性官能團，P為第一反應型官能團，n為0～1500；

所述反應型聚硅氧烷具有式II所示結構：

所述式II中，R₈和R₉分別獨立地選自第二反應型官能團，m為20～100。

2.根據權利要求1所述的保護膜，其特征在于，所述第二膠區遠離所述膜基材的一側表面為平整表面、曲面、彎折表面或粗糙表面。

3.根據權利要求1或2所述的保護膜，其特征在于，所述減粘層設置在所述第二膠區的部分或全部的遠離所述膜基材的一側表面上，且所述減粘層遠離所述第二膠區的表面平齊于、或低于、或高于所述第一膠區遠離所述膜基材的一側表面。

4.根據權利要求1所述的保護膜，其特征在于，所述第一反應型官能團為丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基、烯丙基、環氧基、氰基、羧基或羥基。

5.根據權利要求1或4所述的保護膜，其特征在于，所述惰性官能團為C₁～C₁₂的直鏈或支鏈烷基。

6.根據權利要求5所述的保護膜，其特征在于，所述惰性官能團甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基或異丁基。

7.根據權利要求1所述的保護膜，其特征在于，所述減粘層的原料為Slitech公司的Silsurf A010-D、Silub TMP D218、Silquat D208-CDA、Silmer OH C50、Silmer ACR D208、Silmer NCO Di-100、Silmer EP Di-50、畢克公司的UV3500系列產品、贏創公司的UV2700系列產品、邁圖公司的UV9300、UV9430、藍星公司的POLY360及PLOY200中一種或幾種。

8.根據權利要求1所述的保護膜，其特征在于，所述第二反應型官能團為丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基、烯丙基、環氧基、氰基、羧基或羥基。

9.根據權利要求1所述的保護膜，其特征在于，所述保護膜還包括耐磨導電功能層，所述耐磨導電功能層位于所述膜基材的遠離所述壓敏膠層的一側表面上。

10.根據權利要求9所述的保護膜，其特征在于，按重量百分含量計，所述耐磨導電功能層的材料包括25～35％的含有6至10個官能團的聚氨酯丙烯酸酯、1～5％的季銨鹽類或鋰胺鹽類物質、1～5％的α-羥基酮類引發劑、1～5％的?；⒀趸镱愐l劑及60～70％的酮類或脂類溶劑。

11.根據權利要求1所述的保護膜，其特征在于，所述膜基材為PI層、PET層、TPU層或PVC層。