[發(fā)明專(zhuān)利]一種氮化鎵基發(fā)光二極管外延片的生長(zhǎng)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811137764.X | 申請(qǐng)日: | 2018-09-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109545909B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 丁濤;周飚;胡加輝;李鵬 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 華燦光電(浙江)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L33/00 | 分類(lèi)號(hào): | H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 氮化 發(fā)光二極管 外延 生長(zhǎng) 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種氮化鎵基發(fā)光二極管外延片的生長(zhǎng)方法,屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。包括:提供至少兩種設(shè)有氮化鋁層的襯底,各種襯底上的氮化鋁層的厚度不同;提供一石墨基座,石墨基座上設(shè)有多個(gè)口袋;在每個(gè)口袋中放置一個(gè)襯底,襯底上的氮化鋁層朝向口袋的開(kāi)口,分布在同一個(gè)圓上的口袋中放置的襯底上的氮化鋁層的厚度相同,分布在至少兩個(gè)同心圓上的口袋中放置的襯底上的氮化鋁層的厚度自至少兩個(gè)同心圓的圓心沿至少兩個(gè)同心圓的徑向逐漸減少;在每個(gè)口袋中放置的襯底上的氮化鋁層上依次生長(zhǎng)N型半導(dǎo)體層、有源層和P型半導(dǎo)體層,形成氮化鎵基發(fā)光二極管外延片。本發(fā)明可使得所有口袋中形成的外延片的翹曲一致。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種氮化鎵基發(fā)光二極管外延片的生長(zhǎng)方法。
背景技術(shù)
發(fā)光二極管(英文:Light Emitting Diode,簡(jiǎn)稱(chēng):LED)是一種可以把電能轉(zhuǎn)化成光能的半導(dǎo)體二極管。氮化鎵(GaN)具有良好的熱導(dǎo)性能,同時(shí)具有耐高溫、耐酸堿、高硬度等特性,廣泛應(yīng)用于各種波段的發(fā)光二極管。發(fā)光二極管的核心組件是芯片,芯片包括外延片和設(shè)于外延片上的電極。
氮化鎵基發(fā)光二極管外延片一般包括襯底以及依次層疊在襯底上的緩沖層、N型半導(dǎo)體層、有源層和P型半導(dǎo)體層。襯底用于為外延材料提供生長(zhǎng)表面,緩沖層為外延材料的生長(zhǎng)提供成核中心,N型半導(dǎo)體層用于提供進(jìn)行復(fù)合發(fā)光的電子,P型半導(dǎo)體層用于提供進(jìn)行復(fù)合發(fā)光的空穴,有源層用于進(jìn)行電子和空穴的輻射復(fù)合發(fā)光。
目前量產(chǎn)氮化鎵基發(fā)光二極管外延片的主要設(shè)備是金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉淀(英文:Metal Organic Chemical Vapor Deposition,簡(jiǎn)稱(chēng):MOCVD)系統(tǒng)。MOCVD系統(tǒng)包括源供給系統(tǒng)、氣體輸運(yùn)系統(tǒng)、反應(yīng)室和加熱系統(tǒng)、尾氣處理系統(tǒng)、安全保護(hù)及報(bào)警系統(tǒng)、手動(dòng)和自動(dòng)控制系統(tǒng)。其中,反應(yīng)室由石英管和石墨基座組成。石墨基座上設(shè)有多個(gè)口袋(pocket),多個(gè)口袋分布在以石墨基座的中心為圓心的多個(gè)同心圓上。將各個(gè)襯底分別放置在不同的口袋中,可以同時(shí)在各個(gè)襯底上依次生長(zhǎng)緩沖層、N型半導(dǎo)體層、有源層和P型半導(dǎo)體層,形成外延片。
在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的過(guò)程中,發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下問(wèn)題:
襯底的材料通常選擇藍(lán)寶石,N型半導(dǎo)體層、有源層和P型半導(dǎo)體層的材料通常選擇氮化鎵基材料。藍(lán)寶石和氮化鎵基材料為異質(zhì)材料,晶格常數(shù)差異較大,兩者之間存在較大的晶格失配,晶格失配產(chǎn)生的應(yīng)力和缺陷導(dǎo)致形成的外延片存在翹曲。
外延片的形成過(guò)程中會(huì)高速旋轉(zhuǎn)石墨基座,口袋中的襯底受到離心力作用而向石墨基座的邊緣偏移,導(dǎo)致襯底的邊緣與石墨基座接觸。口袋距離石墨基座的中心越遠(yuǎn),口袋中的襯底受到的離心力越大,襯底與石墨基座的接觸面積越大。由于外延生長(zhǎng)的熱能是通過(guò)石墨基座傳遞到襯底上的,因此襯底與石墨基座的接觸面積越大,襯底的生長(zhǎng)溫度越高,襯底上形成的外延片的翹曲越明顯。所以,石墨基座上同時(shí)形成的外延片的翹曲會(huì)存在差異,極大影響了各個(gè)外延片的波長(zhǎng)均勻性,不利于波長(zhǎng)命中率的提高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種氮化鎵基發(fā)光二極管外延片的生長(zhǎng)方法,能夠解決現(xiàn)有技術(shù)采用石墨基座同時(shí)形成的各個(gè)外延片的翹曲存在差異的問(wèn)題。所述技術(shù)方案如下:
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種氮化鎵基發(fā)光二極管外延片的生長(zhǎng)方法,所述生長(zhǎng)方法包括:
提供至少兩種設(shè)有氮化鋁層的襯底,各種所述襯底上的氮化鋁層的厚度不同;
提供一石墨基座,所述石墨基座上設(shè)有多個(gè)口袋,所述多個(gè)口袋分布在以所述石墨基座的中心為圓心的至少兩個(gè)同心圓上;
在每個(gè)所述口袋中放置一個(gè)所述襯底,所述襯底上的氮化鋁層朝向所述口袋的開(kāi)口,分布在同一個(gè)圓上的口袋中放置的襯底上的氮化鋁層的厚度相同,分布在所述至少兩個(gè)同心圓上的口袋中放置的襯底上的氮化鋁層的厚度自所述至少兩個(gè)同心圓的圓心沿所述至少兩個(gè)同心圓的徑向逐漸減少;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L33-00 至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或設(shè)備;這些半導(dǎo)體器件的零部件
H01L33-02 .以半導(dǎo)體為特征的
H01L33-36 .以電極為特征的
H01L33-44 .以涂層為特征的,例如鈍化層或防反射涂層
H01L33-48 .以半導(dǎo)體封裝體為特征的
H01L33-50 ..波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換元件
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