[發(fā)明專利]一種特定氣體源成分光譜分析方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811136934.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-09-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108872097A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張健;余輝龍;覃翠;趙靜;魏峘;劉偉偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京工程學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/27 | 分類號(hào): | G01N21/27 |
| 代理公司: | 南京鐘山專利代理有限公司 32252 | 代理人: | 戴朝榮 |
| 地址: | 211167 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體源 氣室 光信號(hào)輸出 光譜分析 光譜 進(jìn)氣口 測(cè)量 光電檢測(cè)系統(tǒng) 室內(nèi) 連續(xù)光信號(hào) 光譜分解 氣體組成 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè) 線性組合 制造成本 裝置攜帶 出氣口 光波長(zhǎng) 后端面 前端面 進(jìn)孔 光源 采集 輸出 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種特定氣體源成分光譜分析方法及裝置,其方法是將已知特定氣體源的光譜分解為多個(gè)已知光譜的線性組合,利用多個(gè)光波長(zhǎng)同時(shí)測(cè)量出該種被測(cè)特定氣體源的氣體組成成分的方法。其裝置包括用于采集被測(cè)特定氣體源的氣室,氣室設(shè)置有進(jìn)氣口和出氣口,氣室的前方設(shè)置有用于發(fā)出光譜連續(xù)光信號(hào)的光源,并且氣室的前端面開(kāi)有使光信號(hào)進(jìn)入氣室內(nèi)的光信號(hào)進(jìn)孔,氣室的后端面開(kāi)有使進(jìn)入氣室內(nèi)的光信號(hào)輸出的光信號(hào)輸出孔;氣室的后方設(shè)有用于接收從光信號(hào)輸出孔輸出的光信號(hào)的光電檢測(cè)系統(tǒng)。本發(fā)明的方法沒(méi)有氣體間干擾,能同時(shí)測(cè)量氣體中所有成分,其裝置攜帶方便,制造成本低,能直接在現(xiàn)場(chǎng)對(duì)被測(cè)特定氣體源進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及氣體成分分析技術(shù)領(lǐng)域,特別是一種針對(duì)特定氣體進(jìn)行光譜分析的方法及其利用該方法實(shí)現(xiàn)氣體成分分析的裝置,具體地說(shuō)是一種特定氣體源成分光譜分析方法及裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)有技術(shù)中,普遍采用光譜分析來(lái)測(cè)量氣體中某些成分的濃度,光譜分析是目前的一種重要測(cè)量技術(shù)。但是,光譜分析往往需要昂貴的光譜儀,并且由于光譜儀體積較大,因此也無(wú)法在現(xiàn)場(chǎng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。再說(shuō)利用特征波長(zhǎng)的光強(qiáng)變化的監(jiān)測(cè)方法,一次只能測(cè)量一種物質(zhì),同時(shí)其他物質(zhì)還會(huì)產(chǎn)生干擾。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)狀,而提供沒(méi)有氣體間干擾,并能同時(shí)測(cè)量氣體中所有成分的一種特定氣體源成分光譜分析方法,應(yīng)用該特定氣體源成分光譜分析方法的裝置體積小、攜帶方便,能實(shí)現(xiàn)氣體成分的現(xiàn)場(chǎng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為:
一種特定氣體源成分光譜分析方法,其特征是:將已知特定氣體源的光譜分解為多個(gè)已知光譜的線性組合,利用多個(gè)光波長(zhǎng)同時(shí)測(cè)量出該種被測(cè)特定氣體源的氣體組成成分;其方法為:
假設(shè)特定氣體源的組成成分為由N種氣體組成,每一種氣體的光譜為Pn(n=1,ΛN),則被測(cè)特定氣體源的光譜能表示為
其中,P為被測(cè)特定氣體源的光譜,kn為第n種氣體的體積比,對(duì)每一種氣體成分的光譜經(jīng)過(guò)在不同波長(zhǎng)上的采樣,能表示為:
令:Q=[P1 P2 L PN]4
則式1可以表示為
P=QK 6
其中向量P可以通過(guò)測(cè)量得到,Pn是確定的光譜,能事先測(cè)量得到;通過(guò)求解方程6就能得到kn的值,通過(guò)kn值的大小即能確定被測(cè)特定氣體源中各種氣體組成的成分和所占體積比;第n種氣體所占的體積比為
上述的技術(shù)方案還包括:
當(dāng)取M=N時(shí),即采樣的波長(zhǎng)數(shù)量和可能含有的成分?jǐn)?shù)量相同時(shí);方程6就是一個(gè)有N的未知數(shù)、N個(gè)方程的方程組;方程6的求解過(guò)程為:
步驟一、求Q的秩;
步驟二、若Q的秩為N,R(Q)=N,轉(zhuǎn)到步驟六;若Q的秩小于N,R(Q)<N轉(zhuǎn)到步驟三;
步驟三、逐步增加采樣波長(zhǎng)的數(shù)量,即增加舉證Q的行,每增加一個(gè),求Q的行秩,直到行秩等于N;
步驟四、對(duì)Q進(jìn)行初等行變換,直到變?yōu)樾须A梯矩陣;
步驟五、保留所有非零行,所對(duì)應(yīng)的原始行,使Q重新變?yōu)镽(Q)=N;
步驟六、利用迭代法或高斯消去法求解方程6;
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





