[發(fā)明專利]一種彈性加壓裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811136616.6
• 申請日: 2018-09-28
• 公開（公告）號: CN109441787B
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 公茂瓊;王敬洲;董學(xué)強(qiáng);胡勤國;李會亞
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院理化技術(shù)研究所
• 主分類號: F04B43/06
• 分類號: F04B43/06;F04B43/10;F04B45/033;F04B45/053
• 代理公司: 深圳市科進(jìn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛(wèi)良

本發(fā)明提供的彈性加壓裝置，包括：彈性元件、端蓋、外殼體、流體進(jìn)出口、壓力容器、外部加壓設(shè)備、加壓流體和被加壓流體，加壓流體與被加壓流體由彈性元件隔絕，互不接觸，可以使內(nèi)部流體在與外界環(huán)境不聯(lián)通的情況下，實現(xiàn)壓力變化，其結(jié)構(gòu)簡單，性能穩(wěn)定，可以用于低溫或高溫環(huán)境。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及壓力控制技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彈性加壓裝置。

背景技術(shù)

受控壓力環(huán)境廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測試及化學(xué)分析等領(lǐng)域。在某些特殊情況下，需要使特定環(huán)境中流體在與外界不接觸的情況下實現(xiàn)壓力變化。

目前廣泛用于加壓系統(tǒng)的活塞式加壓模塊由于含有橡膠材質(zhì)密封圈，很難適應(yīng)低溫環(huán)境。專利號為201408100Y的一種高精度雙波紋管結(jié)構(gòu)光纖光柵流體壓力傳感器，使用波紋管受壓形變原理將位移信號轉(zhuǎn)化為光信號，進(jìn)而測量液體壓力，其主要應(yīng)用為測量壓力，不能控制壓力；同樣地，專利號為200320117647.X的一種光纖光柵液位傳感器，使用片狀彈性元件作為形變材料測量壓力，也不能控制壓力大小。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒如此，有必要針對現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種可以使內(nèi)部流體在與外界環(huán)境不聯(lián)通的情況下，實現(xiàn)壓力變化的彈性加壓裝置。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案：

一種彈性加壓裝置，包括：彈性元件、端蓋、外殼體、流體進(jìn)出口、壓力容器、外部加壓設(shè)備、加壓流體和被加壓流體；其中：

所述端蓋包括上端蓋及下端蓋，所述上端蓋、所述下端蓋與所述外殼體配合形成腔體，所述彈性元件設(shè)置于所述腔體內(nèi)且兩端固定于所述外殼體上；

所述流體進(jìn)出口包括加壓流體入口和被加壓流體出口，所述加壓流體入口開設(shè)于位于所述下端蓋處上，所述被加壓流體出口開設(shè)于所述上端蓋上；

所述加壓流體位于所述彈性元件、所述外殼體與所述下端蓋形成的區(qū)域內(nèi)；

所述被加壓流體位于所述彈性元件、所述外殼體與所述上端蓋形成的區(qū)域內(nèi)；

所述加壓流體入口處連接有所述外部加壓設(shè)備，所述被加壓流體出口處連接有所述壓力容器，通過改變所述外部加壓設(shè)備對所述下端蓋施加的壓力，使得所述彈性元件產(chǎn)生彈性位移并對所述被加壓流體施壓，從而實現(xiàn)所述被加壓流體的壓力變化。

在一些較佳的實施例中，所述彈性元件為彈性金屬薄膜。

在一些較佳的實施例中，所述彈性元件為金屬材料。

在一些較佳的實施例中，所述金屬材料為青銅、黃銅、不銹鋼、蒙乃爾合金和因康鎳爾合金中任意一種。

在一些較佳的實施例中，所述被加壓流體為非腐蝕性氣體或者液體。

在一些較佳的實施例中，所述外部加壓設(shè)備包括高壓氣瓶、手動增壓泵、電動增壓泵或機(jī)械增壓設(shè)備。

另一方面，本發(fā)明還提供了另一種彈性加壓裝置，包括：彈性元件、端蓋、外殼體、流體進(jìn)出口、壓力容器、外部加壓設(shè)備、加壓流體和被加壓流體；所述彈性元件為波紋管，其中：

所述端蓋包括上端蓋及下端蓋，所述上端蓋及下端蓋與所述外殼體配合形成腔體，所述波紋管設(shè)置于所述腔體內(nèi)且兩端分別固定于所述上端蓋及蓋體，所述蓋體位于所述下端蓋上；

所述流體進(jìn)出口包括加壓流體入口和被加壓流體出口，所述加壓流體入口開設(shè)于位于下端蓋處，所述被加壓流體出口開設(shè)于所述上端蓋上；

所述被加壓流體位于所述波紋管和所述上端蓋形成的區(qū)域內(nèi)；

所述加壓流體位于所述波紋管、所述下端蓋及所述外殼體形成的區(qū)域內(nèi)；