[發(fā)明專利]利用太赫茲波檢測薄膜的折射率的元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811127905.X | 申請日： | 2018-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN110954504B | 公開（公告）日： | 2022-09-27 |
| 發(fā)明（設計）人： | 秦華;余耀;孫建東;張志鵬 | 申請（專利權）人： | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號： | G01N21/41 | 分類號： | G01N21/41 |
| 代理公司： | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權代理有限公司 44304 | 代理人： | 孫偉峰 |
| 地址： | 215123 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 赫茲 檢測 薄膜 折射率 元件 | ||
1.一種利用太赫茲波檢測薄膜的折射率的元件，其特征在于，所述元件包括：諧振腔（A）和超表面結構（B），所述超表面結構（B）設置于所述諧振腔（A）內，所述超表面結構（B）能夠使進入所述諧振腔（A）內的太赫茲波產(chǎn)生強局域電場；其中，當所述元件對待測薄膜進行檢測時，所述待測薄膜覆蓋于所述超表面結構（B）上；
其中，所述超表面結構（B）包括陣列排布的多個金屬圖案層（1），所述金屬圖案層（1）能夠改變所述待測薄膜的有效介電常數(shù)和磁導率；
其中，所述金屬圖案層（1）包括至少兩層金屬層，所述金屬層層疊設置；其中至少兩層金屬層的材料互不相同；
其中，所述諧振腔（A）包括相對設置的兩個布拉格反射鏡（2）以及夾設于兩個布拉格反射鏡（2）之間的襯底（3），所述超表面結構（B）形成于所述襯底（3）面向兩個布拉格反射鏡（2）中的任意一個的表面上；其中，當所述元件對待測薄膜進行檢測時，所述兩個布拉格反射鏡（2）中的任意一個在所述襯底（3）上的投影覆蓋所述待測薄膜；
其中，所述布拉格反射鏡（2）包括沿朝向所述襯底（3）的方向層疊設置的多個平片組，每個平片組包括第一平片（21）和第二平片（22），所述第一平片（21）面向所述襯底（3），所述第二平片（22）設置于所述第一平片（21）的面向所述襯底（3）的表面上；
其中，所述第二平片（22）中具有通孔（22a），所述通孔（22a）在所述襯底（3）上的投影位于所述超表面結構（B）以內。
2.根據(jù)權利要求1所述的元件，其特征在于，所述第一平片（21）和所述第二平片（22）由石英制成。
3.根據(jù)權利要求1所述的元件，其特征在于，所述布拉格反射鏡（2）在所述襯底（3）上的投影位于所述襯底（3）以內。
4.根據(jù)權利要求1所述的元件，其特征在于，所述襯底（3）由石英制成。
5.根據(jù)權利要求1所述的元件，其特征在于，所述布拉格反射鏡（2）的邊沿通過膠水與所述襯底（3）粘結固定。
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