[發(fā)明專利]一種解決PERC電池EL黑斑黑點的方法

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• 申請日: 2018-09-27
• 公開（公告）號: CN109326684A
• 公開（公告）日: 2019-02-12
• 發(fā)明（設計）人: 劉露露
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州潤陽光伏科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明屬于太陽能電池制造領域，尤其涉及一種解決PERC電池EL黑斑黑點的方法，本發(fā)明方法中水膜噴淋針的孔徑尺寸為0.8mm，水膜裝置可以緩慢覆蓋硅片，緩解了水膜覆蓋硅片的噴水壓力，鋪蓋硅片的壓力減小，可以在保證水流量一致的前提下，有效減少了水膜四處噴濺而污染周圍硅片的不良狀況，能夠有效解決PERC電池EL黑斑黑點問題，既能夠緩解水膜裝置壓力，也能有效解決水膜噴淋針脫落，既不會出現(xiàn)長時間導致針孔堵塞問題，也不會造成水量不足導致的過刻，設備人員需要不定期的進行更換維護，省時省力，同時也解決了因為水膜功率過大，壓力較大造成水膜飛濺而污染皮帶和硅片，造成刻蝕污染的問題，提高了高效單晶的良率和效率，具有廣闊的應用前景。

技術(shù)領域

本發(fā)明屬于太陽能電池制造領域，尤其涉及一種解決PERC電池EL黑斑黑點的方法。

背景技術(shù)

2017年高效單晶電池爭先恐后占據(jù)光伏電池片的主流市場，成為了太陽電池新一代常規(guī)技術(shù)，PERC電池通過在電池背面實行鈍化技術(shù)，增強光線在硅基的內(nèi)背反射，降低了背面復合，從而使PERC電池的效率能夠有效提升，低成本高效率的PERC電池在量產(chǎn)優(yōu)勢顯著情況下，同所有技術(shù)一樣，新產(chǎn)品的問世，也伴隨一些挑戰(zhàn)和一些待解決的問題，高效單晶電池片成品的EL問題更為突出。EL是電致發(fā)光(英文electroluminescent)的簡稱，是通過加在兩電極的電壓產(chǎn)生電場，被電場激發(fā)的電子碰擊發(fā)光中心，而引致電子解級的躍進、變化、復合導致發(fā)光的一種物理現(xiàn)象。

高效單晶電池片成品的EL問題比常規(guī)單晶的良率更加難以控制，所以PERC電池要比普通單晶對制成過程更為嚴格，例如超高的潔凈度，嚴格的傳輸裝置和工裝夾具，都有嚴格的要求。電池片EL下的黑斑黑點，在背鈍化工藝下，顯示更為明顯，電池片的黑斑缺陷區(qū)域含有高濃度的有害雜質(zhì)，其中的S元素，金屬Ca、Zn、Sr、和Co含量超表，這些雜質(zhì)在晶硅電池中產(chǎn)生復合中心，降低擴散長度以及少子壽命，在EL下形成黑斑，所以提高生成過程中的潔凈度和腐蝕清洗質(zhì)量是減少黑斑的關鍵所在，而濕法是導致黑斑形成的主要工序，水膜的飛濺，落在上設備上料傳送皮帶上，導致皮帶潮濕，硅片傳輸過程中，導致硅片污染形成硅片體內(nèi)缺陷，最終形成EL黑斑，由于高效單晶太陽能高效電池酸拋光工藝是太陽能高效電池制造工藝中至關重要的一步，對成品電池片的EL良率以及電性能有著重大的影響，高效單晶電池占據(jù)光伏電池主流市場前提下，EL黑斑是刻蝕酸拋經(jīng)常會出現(xiàn)的問題，酸拋要求高反射率和高減重，背面在濃酸條件下劇烈反應，極易造成刻蝕過刻，水膜在進刻蝕槽前的覆蓋情況至關重要，這就對水膜要求較高，要保證足夠的水流量，就需要設備有足夠的壓力，做成成品電池片后EL黑斑嚴重，降低了成品的合格率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種能夠有效解決PERC電池EL黑斑黑點、提高產(chǎn)品合格率的方法。

本發(fā)明解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足所采用的技術(shù)方案是：

一種解決PERC電池EL黑斑黑點的方法，將PERC電池依次經(jīng)過上料、水膜、酸拋、水洗、堿洗、水洗、酸洗、水洗、烘干、下料處理，其特征在于，所述水膜設有水膜噴淋針，所述水膜噴淋針的孔徑尺寸為0.8mm。

優(yōu)選的，本發(fā)明中所述水膜噴淋針為倒圓錐形。

本發(fā)明的有益效果是，由于本發(fā)明方法中水膜噴淋針的孔徑尺寸為0.8mm，水膜裝置可以緩慢覆蓋硅片，緩解了水膜覆蓋硅片的噴水壓力，鋪蓋硅片的壓力減小，可以在保證水流量一致的前提下，有效減少了水膜四處噴濺而污染周圍硅片的不良狀況，因而本發(fā)明方法能夠有效解決PERC電池EL黑斑黑點問題，既能夠緩解水膜裝置壓力，也能有效解決水膜噴淋針脫落，既不會出現(xiàn)長時間導致針孔堵塞問題，也不會造成水量不足導致的過刻，設備人員需要不定期的進行更換維護，省時省力，同時也解決了因為水膜功率過大，壓力較大造成水膜飛濺而污染皮帶和硅片，造成刻蝕污染的問題，也就解決了困擾企業(yè)的EL良率中最為重要的一個不良類型，提高了高效單晶的良率和效率，具有廣闊的應用前景。

附圖說明