[發明專利]用于制作襯墊式BPS的光罩和液晶顯示面板有效
| 申請號: | 201811126276.9 | 申請日: | 2018-09-26 |
| 公開(公告)號: | CN109298590B | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發明(設計)人: | 曹武 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/26 | 分類號: | G03F1/26;G02F1/13;G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產權代理事務所 44265 | 代理人: | 林才桂;劉巍 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制作 襯墊 bps 液晶顯示 面板 | ||
1.一種用于制作襯墊式BPS的光罩,其特征在于,所述光罩設有用于形成主隔墊物色阻襯墊的襯墊圖案,所述襯墊圖案包括透光區域以及設于所述透光區域中的具有小關鍵尺寸的遮光圖案;所述具有小關鍵尺寸的遮光圖案為某一特征方向上線度足夠小的規則圖案;所述關鍵尺寸小于等于5um。
2.如權利要求1所述的光罩,其特征在于,所述襯墊圖案的透光面積占比大于等于70%。
3.如權利要求1所述的光罩,其特征在于,所述遮光圖案為方塊形,三角形,圓形,方塊形的陣列排布,線條形,網格形,或回字形。
4.如權利要求1所述的光罩,其特征在于,所述小關鍵尺寸小于等于2微米。
5.一種液晶顯示面板,其特征在于,包括上基板、下基板以及設于所述下基板上的襯墊式BPS;所述襯墊式BPS包括隔墊物和位于所述下基板上并與所述隔墊物對應設置的隔墊物襯墊,所述隔墊物包括主隔墊物與輔助隔墊物,所述隔墊物襯墊包括主隔墊物襯墊和輔助隔墊物襯墊,所述主隔墊物襯墊包括主隔墊物色阻襯墊,所述主隔墊物色阻襯墊的上表面設有微坑;
所述微坑呈溝槽或點陣凸起凹陷狀,所述主隔墊物色阻襯墊的表面局部粗糙度大于0.1um,小于0.3um。
6.如權利要求5所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述襯墊式BPS還包括黑色矩陣;所述主隔墊物襯墊和輔助隔墊物襯墊設于下基板上,所述主隔墊物襯墊高度高于所述輔助隔墊物襯墊;所述主隔墊物襯墊上方對應設有所述黑色矩陣和主隔墊物,所述輔助隔墊物襯墊上方對應設有所述黑色矩陣和輔助隔墊物。
7.如權利要求5所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述隔墊物頂部形成四周高、中部略微凹陷的凹槽結構,所述凹槽結構波峰波谷值大于0.1um,小于0.5um。
8.如權利要求5所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述主隔墊物色阻襯墊包括一層或多層色阻。
9.如權利要求5所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述隔墊物襯墊還包括無機平坦層或有機平坦層,或者包括薄膜晶體管。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





