[發明專利]發光器件微區光度和色度學參數的測量方法及其測量裝置

有效

• 申請號: 201811119101.5
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN109186946B
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發明（設計）人: 呂毅軍;鄭莉莉;阮育嬌;高玉琳;周萍;朱麗虹;郭自泉;林岳;陳國龍;陳忠
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: G01M11/00
• 分類號: G01M11/00
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所(普通合伙) 35200
• 代理人: 張素斌

1.發光器件微區光度和色度學參數的測量方法，其特征在于：所述測量方法采用的測量裝置包括輻亮度光源校準系統和顯微高光譜成像測試系統；

所述輻亮度光源校準系統包括計算機、光譜儀、光譜輻亮度探頭、積分球和鹵鎢燈光源；所述鹵鎢燈光源通過光纖連接積分球；所述光譜輻亮度探頭位于積分球的正面，且光譜輻亮度探頭與光譜儀通過光纖連接；所述計算機與光譜儀連接；

所述顯微高光譜成像測試系統包括計算機、高光譜成像儀、顯微鏡、控溫熱沉、控溫電源和驅動電源；驅動電源連接待測的樣品；控溫電源與控溫熱沉連接，樣品置于控溫熱沉上；顯微鏡設于樣品上方；高光譜成像儀設于顯微鏡的上方并與顯微鏡連接；計算機連接高光譜成像儀；

所述測量方法包括以下步驟：

步驟1、獲取均勻發光平面的光譜輻亮度分布校準文件；首先打開鹵鎢燈光源，鹵鎢燈光源提供可見光波段連續波長的光譜數據，然后通過光纖將鹵鎢燈光源的光引入一個擁有采樣平面的積分球里，待發光穩定后，光源在積分球的出光口形成穩定的均勻發光平面，最后光譜輻亮度探頭采集均勻發光平面并通過光纖將光導入光譜儀，進而得到均勻發光平面的光譜輻亮度分布R_S(λ)；

步驟2、校準顯微高光譜成像測試系統；首先將積分球的出光口朝上放置在顯微鏡的載物臺上，調整焦距使得鏡頭聚焦在出光口平面上，采集暗電流下的視野內每一點光譜D₀(λ)，然后點亮鹵鎢燈光源至發光穩定，調整合適的曝光時間t₀，并采集出光口平面上的每個像素點的光譜P₀(λ)，最后利用步驟1獲取的光譜輻亮度分布R_S(λ)，得到每一像素點光譜輻亮度校正曲線C(λ)；

整個視野所有像素點的光譜輻亮度校正曲線為一個三維矩陣M(x,y,C(λ))，其中x、y為高光譜成像測試系統成像維像素點的橫縱坐標；對顯微鏡的不同放大倍數，需分別測試光譜輻亮度校正曲線三維矩陣M(x,y,C(λ))；

步驟3、測試并計算待測樣品的光度和色度參數；首先調節顯微高光譜成像測試系統，采集所拍攝區域內的每一像素點數據，然后調用對應實驗條件下的步驟2獲得的光譜輻亮度校正數據M(x,y,C(λ))進行光譜校正，單個像素點輻亮度光譜的計算公式如下：

其中，P(λ)為待測樣品的光子數光譜，D(λ)為暗電流光子數光譜，t為曝光時間，L(λ)為亮度校正后的輻亮度光譜。

2.如權利要求1所述的發光器件微區光度和色度學參數的測量方法，其特征在于：還包括以下步驟：

步驟4、對步驟3中校正后的光譜進行絕對亮度、平均亮度、色坐標和相關色溫參數的計算。