[發明專利]一種多凹面光柵共軸裝配系統及方法

有效

• 申請號: 201811118413.4
• 申請日: 2018-09-21
• 公開（公告）號: CN108983434B
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: 楊小虎;王淑榮;黃煜;張子輝
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G02B27/62
• 分類號: G02B27/62
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛良

1.一種多凹面光柵共軸裝配系統，其特征在于，所述系統包括：

干涉儀，用于發出準直平面波，以及觀測多凹面光柵返回的波像差；

平面折轉鏡，與所述干涉儀相對，用于將所述干涉儀發出的準直平面波折轉；

調整機構，包括多個子調整組件，用于調節控制待裝配凹面光柵的狀態；

標準平面鏡，用于對折轉后的平行光束進行平移；

半反半透鏡組，由兩個互相垂直的半反半透鏡組成，所述平行光束經過所述半反半透鏡分光形成第一路光束和第二路光束，第一路光束匯聚成回路與所述干涉儀的標準鏡后面返回光束形成干涉；

標準模板，具有兩條平行刻線，所述第二路光束匯聚在所述標準模板處，用于根據所述第二路光束的匯聚情況輔助確定凹面光柵之間間距以及相對位置；

硫酸紙屏，設置在兩個半反半透鏡之間，用于展示光束匯聚情況；

經緯儀，設置在所述標準模板后側，用于平移平行光束且觀測待裝配凹面光柵各級光譜匯聚情況；

其中：所述子調整組件包括用于安裝待裝配凹面光柵的光柵座以及與所述光柵座連接的擺桿及絲杠，所述光柵座在所述絲杠及擺桿的帶動下進行角度調整。

2.根據權利要求1所述的多凹面光柵共軸裝配系統，其特征在于，所述光柵座中設有用于調整待裝配凹面光柵位置的頂絲或墊片。

3.一種多凹面光柵共軸裝配方法，其特征在于，應用于權利要求1至2中任一項所述的多凹面光柵共軸裝配系統，所述方法包括：

利用標準平面鏡和經緯儀將干涉儀發出的準直平面波進行平移，使得平移后的準直平面波與標準模板的表面垂直，并利用經緯儀監測調節所述標準模板使得所述標準模板上平行刻線均垂直于水平面；

調節平面折轉鏡和調整機構驅動多個待裝配凹面光柵產生旋轉，使得所述多個待裝配凹面光柵將準直平面波的平行光束匯聚于所述標準模板的平行刻線上，調節半反半透鏡組和硫酸紙屏使得部分所述平行光束匯聚在硫酸紙屏上；

保持所述平行光束匯聚于所述標準模板的平行刻線上，調節光柵座使得待裝配凹面光柵進行旋轉和/或平移微動，直到所述多個待裝配凹面光柵的相同級次的衍射在所述硫酸紙屏上的匯聚點重合；

利用絲杠驅動擺桿帶動所述待裝配凹面光柵進行旋轉直到不同級次的光柵衍射在所述硫酸紙屏上的匯聚點都重合；

移除所述硫酸紙屏，利用所述絲杠驅動擺桿帶動所述多個待裝配凹面光柵使得在硫酸紙屏處的各級匯聚點依次形成互逆，直到在所述干涉儀的屏幕上形成干涉圖的波像差最小。

4.根據權利要求3所述的多凹面光柵共軸裝配方法，其特征在于，所述多個待裝配凹面光柵至少包括第一凹面光柵和第二凹面光柵。

5.根據權利要求3所述的多凹面光柵共軸裝配方法，其特征在于，所述干涉儀采用Zygo干涉儀，所述經緯儀采用萊卡經緯儀。

6.根據權利要求3所述的多凹面光柵共軸裝配方法，其特征在于，所述待裝調凹面光柵的入射出射臂要求一致，刻線密度相同或者成整數倍遞進。