[發明專利]一種逐液滴離心霧化法高效制備低熔點球形金屬粉末的裝置及方法

在審

• 申請號: 201811116484.0
• 申請日: 2018-09-25
• 公開（公告）號: CN109047785A
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發明（設計）人: 董偉;許富民;孟瑤;朱勝;王曉明;白兆豐;王延洋;韓陽;李國斌;趙陽;石晶;韓國峰;王思捷;常青;任志強;滕濤
• 申請（專利權）人: 大連理工大學;中國人民解放軍陸軍裝甲兵學院
• 主分類號: B22F9/10
• 分類號: B22F9/10
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 李馨

1.一種逐液滴離心霧化法高效制備低熔點球形金屬粉末的裝置，包括殼體(12)、設置于所述殼體(12)內的坩堝(4)和粉末收集區，所述粉末收集區置于所述殼體(12)的底部，所述坩堝(4)置于所述粉末收集區的上部，所述坩堝(4)上設有與設置在所述殼體(12)外部的壓電陶瓷(1)相連的傳動桿(2)，所述傳動桿(2)的下端對著所述坩堝(4)底部的中心孔，所述中心孔底部裝有帶小孔的墊片(6)；所述坩堝(4)內部設有熱電偶，所述坩堝(4)外部設有環形電阻加熱器(5)；

所述殼體(12)上設有伸入于所述坩堝(4)內的坩堝進氣管(20)，所述殼體(12)的側壁上還設有與所述坩堝(4)相連通的機械泵(16)和擴散泵(17)，所述殼體(12)上還設有腔體進氣口(15)和腔體排氣閥(18)；

所述粉末收集區包括設置在所述殼體底部的收集盤(11)和設置于所述收集盤(11)上方的與電機(9)相連的用于霧化金屬粉末液滴(14)的轉盤(8)；其特征在于：

所述轉盤(8)包括基體，所述基體由上部的承接部(21)和下部的支撐部(22)構成的縱截面呈類“T型”的主體結構，所述承接部(21)上表面設有與其圓心同軸的具有一定半徑的圓形凹槽；其中，所述基體采用導熱性小于20W/m/k的材料制成；

霧化平面(23)，為圓盤結構，所述圓盤與所述圓形凹槽相匹配且與所述圓形凹槽過盈配合，所述霧化平面(23)采用與霧化金屬粉末液滴(14)潤濕角小于90°的材料制成；

通氣孔(24)，貫通設置在所述承接部(21)及所述支撐部(22)內，所述通氣孔(24)的上端面與所述霧化平面(23)的下端面接觸，所述通氣孔(24)的下端與外界連通；

所述轉盤(8)的外圍還設有感應加熱線圈(13)。

2.根據權利要求1所述的逐液滴離心霧化法高效制備低熔點球形金屬粉末的裝置，其特征在于，所述坩堝(4)底部的的中心孔直徑大于帶小孔的墊片(6)的小孔直徑，所述帶小孔的墊片(6)的小孔直徑范圍在0.02mm-2.0mm之間。

3.根據權利要求1所述的逐液滴離心霧化法高效制備低熔點球形金屬粉末的裝置，其特征在于，所述帶小孔的墊片(6)的材料與置于所述坩堝內的熔體(3)的潤濕角大于90°。

4.根據權利要求1所述的逐液滴離心霧化法高效制備低熔點球形金屬粉末的裝置，其特征在于，所述轉盤(8)的轉速為10000rpm-50000rpm。

5.根據權利要求1所述的逐液滴離心霧化法高效制備低熔點球形金屬粉末的裝置，其特征在于，所述感應加熱線圈(13)的加熱厚度范圍在5-20mm之間，它與設置在所述殼體(12)外的變頻器和穩壓電源相連，所述穩壓電源的電壓控制范圍在0-50V之間。

6.根據權利要求1所述的逐液滴離心霧化法高效制備低熔點球形金屬粉末的裝置，其特征在于，在所述裝置自上而下的方向上，所述壓電陶瓷(1)、所述傳動桿(2)、所述坩堝(4)、所述環形式電阻加熱器(5)、所述墊片(6)、所述轉盤(8)以及所述感應加熱線圈(13)位于同一軸線上。