[發明專利]一種電解催化氧化污水處理裝置有效
| 申請號: | 201811115912.8 | 申請日: | 2018-09-25 |
| 公開(公告)號: | CN109095568B | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發明(設計)人: | 孫勇 | 申請(專利權)人: | 云南龍鎂環境科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F1/461 | 分類號: | C02F1/461;C02F1/72 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 655000 云南省曲靖市翠峰西路曲靖開發區新*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電解 催化 氧化 污水處理 裝置 | ||
本發明涉及污水處理技術領域,具體的說是一種電解催化氧化污水處理裝置,包括活塞、儲存機構、驅動機構、進水管、清理機構、除雜機構、連接機構和電解機構,儲存機構的內部對稱安裝電解機構,且儲存機構內部安裝驅動機構,驅動機構轉動連接電解機構,在處理污水的過程中,驅動機構帶動清理機構在電解機構的側壁滑動,將電解機構側壁吸附的雜質除去,使電解機構與污水充分接觸;儲存機構的底端安裝除雜機構,污水進入儲存機構的內部與除雜機構接觸,除雜機構將污水大部分的雜質去除,避免過多的雜質與電解機構接觸,從而減小電解機構表面的雜質。
技術領域
本發明涉及污水處理技術領域,具體的說是一種電解催化氧化污水處理裝置。
背景技術
電解污水處理法是將電能轉化成化學能使電解槽內電極附近產生氧化還原反應,從而使廢水得以凈化的過程。這種水處理法包括電極表面上的電化學作用、間接氧化和間接還原作用、電浮選作用、電絮凝作用等。電解法處理的優點是:使用低壓直流電源,不耗費大量化學藥劑,操作簡易,管理方便,占地面積小。
在電解污水的過程中,污水上的一些雜質沾染在電解裝置上,阻擋電解裝置與污水接觸,降低了處理污水的效率;鑒于此,本發明提供了一種電解催化氧化污水處理裝置,其具有以下特點:
(1)本發明的一種電解催化氧化污水處理裝置,儲存機構的內部對稱安裝電解機構,且儲存機構內部安裝驅動機構,驅動機構轉動連接電解機構,在處理污水的過程中,驅動機構帶動清理機構在電解機構的側壁滑動,將電解機構側壁吸附的雜質除去,使電解機構與污水充分接觸。
(2)本發明的一種電解催化氧化污水處理裝置,儲存機構的底端安裝除雜機構,污水進入儲存機構的內部與除雜機構接觸,除雜機構將污水大部分的雜質去除,避免過多的雜質與電解機構接觸,從而減小電解機構表面的雜質。
發明內容
針對現有技術中的問題,本發明提供了一種電解催化氧化污水處理裝置,儲存機構的內部對稱安裝電解機構,且儲存機構內部安裝驅動機構,驅動機構轉動連接電解機構,在處理污水的過程中,驅動機構帶動清理機構在電解機構的側壁滑動,將電解機構側壁吸附的雜質除去,使電解機構與污水充分接觸。儲存機構的底端安裝除雜機構,污水進入儲存機構的內部與除雜機構接觸,除雜機構將污水大部分的雜質去除,避免過多的雜質與電解機構接觸,從而減小電解機構表面的雜質。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:一種電解催化氧化污水處理裝置,包括活塞、儲存機構、驅動機構、進水管、清理機構、除雜機構、連接機構和電解機構;所述儲存機構的頂端對稱安裝所述進水管,所述儲存機構的底端安裝所述除雜機構,且所述除雜機構和所述儲存機構的側壁分別卡合所述活塞;所述儲存機構的內側壁安裝電解機構,所述電解機構的側壁滑動連接所述清理機構;所述儲存機構的內部安裝所述驅動機構,所述驅動機構的側壁對稱安裝多個所述清理機構,且所述清理機構與所述驅動機構的連接處安裝所述連接機構。
具體的,所述儲存機構包括兩個第一箱體和第二箱體,所述第一箱體的頂面安裝所述進水管,且兩個所述第一箱體之間安裝所述第二箱體,所述第二箱體的底端與所述第一箱體的底端連通,為了方便污水從所述第一箱體的頂端向下流動,使污水進入所述第一箱體的底端,污水在從下到上進入比第二箱體的內部,降低污水流動速度。
具體的,所述除雜機構包括固定桿、擋板、通孔、擋水板、轉軸和凸塊,所述第一箱體的底端內側壁安裝側壁弧形的所述擋板,所述擋板與所述第一箱體的內部底面之間安裝所述固定桿,所述固定桿的兩端抵觸所述第一箱體的兩端內側壁,且所述固定桿的側壁和頂端均勻設有圓臺形的所述通孔;所述固定桿的內部轉動連接所述轉軸,所述轉軸的側壁等距安裝側壁為弧形的所述擋水板,且所述固定桿的底端內部安裝多個弧形的所述凸塊,為了方便污水沖擊到所述擋板的側壁上,降低污水的流到速度,使污水內部的雜質初步沉淀在所述第一箱體的內部,污水貫穿圓臺形的所述通孔進入所述固定桿的內部,使污水加速與所述擋水板接觸,帶動所述擋水板和所述轉軸在所述固定桿的內部運動,使污水中的雜質沉淀在固定桿的內部底端,且所述凸塊云污水接觸,使污水內部的雜質沉淀在相鄰的凸塊之間。
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