[發明專利]描繪裝置,描繪方法以及記錄介質有效
| 申請號: | 201811113074.0 | 申請日: | 2018-09-21 |
| 公開(公告)號: | CN109551895B | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發明(設計)人: | 清水大輔 | 申請(專利權)人: | 卡西歐計算機株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/165 | 分類號: | B41J2/165;B41J3/36;B41J3/407;B41J3/44;A45D29/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 韓聰 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 描繪 裝置 方法 以及 記錄 介質 | ||
1.一種描繪裝置,具備:
描繪頭,具有對描繪對象排出墨水的墨水排出面并對所述描繪對象進行描繪;
頭移動部,使所述描繪頭在第一方向以及與所述第一方向交叉的第二方向上能移動;
描繪控制部,控制所述描繪頭以及所述頭移動部;
帽蓋部,保護所述墨水排出面;和
多個維護部,進行所述描繪頭的相互不同的內容的維護,
在所述描繪頭通過所述頭移動部而能移動的范圍內,描繪區域、待機區域和所述多個維護部被設置于相互不同的位置,其中所述描繪區域是載置所述描繪對象并進行所述描繪頭的所述描繪的區域,所述待機區域是配置所述帽蓋部的區域,
所述描繪控制部通過所述頭移動部,在所述描繪區域從所述墨水排出面對所述描繪對象排出所述墨水,
所述描繪控制部通過所述頭移動部來使所述描繪頭在待機區域從所述第二方向的一方向另一方移動,從而通過所述帽蓋部來保護所述墨水排出面,
所述帽蓋部具備施力構件,所述施力構件具有將所述帽蓋部從所述第二方向的所述另一方向所述一方施加的施力。
2.根據權利要求1所述的描繪裝置,其中,
通過所述頭移動部來使所述描繪頭在待機區域從所述第二方向的一方向另一方移動,從而所述帽蓋部被向所述第二方向的所述另一方側壓入并且升起至覆蓋所述墨水排出面的位置。
3.根據權利要求1所述的描繪裝置,其中,
所述描繪控制部使所述描繪頭在所述待機區域從所述第二方向的所述一方向所述另一方移動,從而所述帽蓋部抵抗所述施力而被向所述第二方向的所述另一方側壓入,并且升起至覆蓋所述墨水排出面的位置。
4.根據權利要求1所述的描繪裝置,其中,
所述待機區域在所述描繪頭未進行所述描繪的非描繪時配置有所述描繪頭,
多個維護部相互在第1方向以及第2方向上被錯開配置。
5.根據權利要求1至4的任意一項所述的描繪裝置,其中,
所述待機區域被配置于比所述描繪區域更靠所述第二方向的所述另一方側。
6.根據權利要求1至4的任意一項所述的描繪裝置,其中,
所述描繪控制部通過所述頭移動部來使所述描繪頭從所述第一方向的一方向另一方移動,并且通過所述頭移動部來使所述描繪頭在待機區域從所述第二方向的一方向另一方移動,從而使所述描繪頭在所述待機區域移動。
7.根據權利要求1至4的任意一項所述的描繪裝置,其中,
在所述描繪頭對所述描繪對象進行所述描繪時,所述帽蓋部被配置于比所述墨水排出面更低的位置,以使得不與所述描繪頭的所述墨水排出面接觸。
8.一種描繪裝置的控制方法,
所述描繪裝置具備:描繪頭,在第一方向以及與所述第一方向交叉的第二方向上能移動且對描繪對象從墨水排出面排出墨水來對所述描繪對象進行描繪;帽蓋部,保護所述墨水排出面;和多個維護部,進行所述描繪頭的相互不同的內容的維護,
在所述描繪頭的能移動范圍內,描繪區域、待機區域和所述多個維護部被設置于相互不同的位置,其中所述描繪區域是載置所述描繪對象并進行所述描繪頭的所述描繪的區域,所述待機區域是設置所述帽蓋部的區域,
在所述描繪區域,從所述墨水排出面對所述描繪對象排出所述墨水,
使所述描繪頭在待機區域從所述第二方向的一方向另一方移動,從而通過所述帽蓋部來保護所述墨水排出面,
所述帽蓋部所具備的施力構件具有將所述帽蓋部從所述第二方向的所述另一方向所述一方施加的施力。
9.一種記錄介質,記錄了控制描繪裝置的程序,
所述描繪裝置具備:描繪頭,在第一方向以及與所述第一方向交叉的第二方向上能移動且對描繪對象從墨水排出面排出墨水來對所述描繪對象進行描繪;帽蓋部,保護所述墨水排出面;和多個維護部,進行所述描繪頭的相互不同的內容的維護,
在所述描繪頭的能移動的范圍內,描繪區域、待機區域和所述多個維護部被設置于相互不同的位置,其中所述描繪區域是載置所述描繪對象并進行所述描繪頭的所述描繪的區域,所述待機區域是設置所述帽蓋部的區域,
所述程序用于使控制所述描繪裝置的計算機執行如下處理:
在所述描繪區域,從所述墨水排出面對所述描繪對象排出所述墨水,
使所述描繪頭在待機區域從所述第二方向的一方向另一方移動,從而通過所述帽蓋部來保護所述墨水排出面,
所述帽蓋部所具備的施力構件具有將所述帽蓋部從所述第二方向的所述另一方向所述一方施加的施力。
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