[發明專利]一種激光輸出裝置及調整方法在審
| 申請號: | 201811111245.6 | 申請日: | 2018-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN109363767A | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發明(設計)人: | 吳磊;賈鋒;張明 | 申請(專利權)人: | 上海市激光技術研究所 |
| 主分類號: | A61B18/20 | 分類號: | A61B18/20;A61B90/00;A61B90/30;A61B90/11 |
| 代理公司: | 上海恒銳佳知識產權代理事務所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黃海霞 |
| 地址: | 201233 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光輸出裝置 振鏡掃描系統 成像系統 光學軸線 聚焦場鏡 控制系統 定位部 聚焦點 主體部 共焦 激光 激光入射口 輸出 波長激光 定位信息 嚴重畸變 平行 圖像 清晰 覆蓋 | ||
本發明提供了一種激光輸出裝置,包括主體部、定位部和控制系統,所述主體部包括激光入射口、振鏡掃描系統、聚焦場鏡和成像系統。所述成像系統的光學軸線與所述聚焦場鏡的光學軸線平行,使得兩者的光學范圍都可以覆蓋所述工作范圍,避免獲得具有嚴重畸變或不清晰的圖像;所述定位部對所述聚焦點進行第一次定位后,所述振鏡掃描系統依據所述控制系統形成的定位信息在所述工作范圍內進一步對所述聚焦點進行第二次定位,使得第二激光實現與第一激光共焦輸出,避免了現有技術存在的定位不準問題。本發明還提供了一種使用所述激光輸出裝置使不同波長激光實現共焦輸出的調整方法。
技術領域
本發明涉及光學測量技術領域,尤其涉及一種激光輸出裝置及調整方法。
背景技術
激光輻照生物組織時,病損組織能夠對光輻射產生選擇性吸收。合理控制 輻照的劑量、范圍和曝光時間,能夠進一步將產生的熱能限制病損組織所在的 區域內,使病損組織受到刺激、凝固或發生汽化缺損,同時周圍的正常組織不 會受到破壞。激光應用于醫學領域,由于不存在與病損組織的機械接觸,避免 了接觸性感染,極大程度上提高了手術的質量和安全性。
由于治療部位存在許多不同類型組織,對同一波長激光具有不同的吸收率, 為達到良好的治療效果,需要使用至少兩路不同波長的激光對同一治療部位進 行輻照。現有技術通常使用幾臺不同波長的單波長激光進行多波長的激光手術, 依靠目測和經驗來判斷聚焦點和同軸的位置,容易造成定位不準的問題,降低 激光手術的安全性。
公告號為CN202335924U的中國實用新型專利揭示了一種應用于激光脫毛 器的雙波長激光同軸輸出光學裝置,該裝置的半透半反鏡設置在紅外激光和可 見激光的出射光路上,確保了雙路激光的同軸性,但該裝置無法使波長相差較 大的紅外激光和可見激光具有共焦性,仍然存在定位不準的問題。
因此,有必要提供一種新型的激光輸出裝置以解決現有技術中存在的上述 問題。
發明內容
本發明的目的在于提供一種激光輸出裝置,通過定位部對聚焦點進行第一次 定位,結合成像系統和振鏡掃描系統進一步對聚焦點進行第二次定位,使第二 激光輸出在工作面的由所述第一激光形成的聚焦點上,避免現有技術中存在的 定位不準問題。
為實現上述目的,本發明的所述激光輸出裝置,包括主體部、定位部和控制 系統,所述主體部包括激光入射口、振鏡掃描系統、聚焦場鏡和成像系統;所 述激光入射口位于所述主體部的側面,用于供所述第二激光進入所述主體部; 所述定位部用于在所述工作面上限定工作范圍,以對所述聚焦點進行第一次定 位;所述成像系統用于對所述聚焦點進行第二次定位,以形成圖像信息,所述 成像系統的光學軸線與所述聚焦場鏡的光學軸線平行,所述成像系統的光學范 圍不小于所述工作范圍;所述控制系統用于根據所述圖像信息生成位置信息; 所述振鏡掃描系統用于根據所述位置信息改變所述入射激光的光路,使所述第 二激光的入瞳位置為所述聚焦場鏡的前焦點位置;所述聚焦場鏡位于所述振鏡 掃描系統正下方,用于使所述第二激光輸出在所述聚焦點上。
本發明所述激光輸出裝置的有益效果在于:一方面,所述成像系統的光學軸 線與所述聚焦場鏡的光學軸線平行,能夠使所述第一激光在任何視場角的情況 下都垂直于焦平面,且所述成像系統和所述聚焦場鏡的光學范圍都可以覆蓋所 述工作范圍,避免所述成像系統獲得出現嚴重畸變或不清晰的圖像,有助于準 確判斷所述聚焦點的位置信息;另一方面,所述定位部對所述聚焦點進行所述 第一次定位后,所述振鏡掃描系統依據所述定位信息在所述定位部限定的所述 工作范圍內進一步對所述聚焦點進行所述第二次定位,使得所述第二激光實現 了與所述第一激光共焦輸出,避免了現有技術存在的定位不準問題。
優選的,所述激光輸出裝置包括吹氣裝置,所述吹氣裝置與所述定位部固定 連接,所述吹氣裝置用于在所述聚焦場鏡的正下方形成氣流層。其有益效果在 于:有利于推開灰塵等污染物,保護所述聚焦場鏡。
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