[發明專利]光阻旋涂裝置以及光阻旋涂方法在審
| 申請號： | 201811110378.1 | 申請日： | 2018-09-21 |
| 公開（公告）號： | CN110941143A | 公開（公告）日： | 2020-03-31 |
| 發明（設計）人： | 黃帥 | 申請（專利權）人： | 長鑫存儲技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明偉 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光阻旋涂 裝置 以及 方法 | ||
1.一種光阻旋涂裝置，其特征在于，包括：
旋轉驅動裝置；
位于所述旋轉驅動裝置上方的晶圓托盤；以及
位于所述晶圓托盤之上的蓋板，所述蓋板和所述晶圓托盤由所述旋轉驅動裝置驅動轉動。
2.根據權利要求1所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述光阻旋涂裝置還包括位于所述晶圓托盤四周的內腔體，所述內腔體由所述驅動裝置驅動轉動，并且所述蓋板通過所述內腔體連動轉動。
3.根據權利要求1所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述蓋板通過第二轉動軸(60)旋轉。
4.根據權利要求2所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述內腔體設置有排液口。
5.根據權利要求2所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述蓋板與所述內腔體上表面之間的距離介于0～5mm。
6.根據權利要求2所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述光阻旋涂裝置還包括位于所述內腔體四周的外腔體。
7.根據權利要求2所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述蓋板的直徑介于150mm～550mm。
8.根據權利要求2所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述蓋板上設置有排氣孔。
9.根據權利要求2所述的光阻旋涂裝置，其特征在于，
所述內腔體通過所述旋轉驅動裝置與所述晶圓托盤共軸轉動。
10.一種光阻旋涂裝置的光阻旋涂方法，其特征在于，包括如下步驟：
將晶圓放置在晶圓托盤上；
將所述光阻旋涂在所述晶圓表面上；
對所述光阻進行回流；
關閉蓋板，使其覆蓋在所述晶圓之上；
利用旋轉驅動裝置驅動所述晶圓托盤帶動所述晶圓旋轉；
打開蓋板；
執行邊緣光刻膠去除工序。
11.根據權利要求10所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
在旋涂所述光阻層之前，還包括以下步驟：在晶圓上旋涂濕潤溶劑進行預濕；然后將所述溶劑旋出。
12.根據權利要求10或11所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
在邊緣光刻膠去除步驟之后，還依次包括如下步驟：后沖洗工藝和甩干工藝。
13.根據權利要求10或11所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
所述光阻旋涂裝置包括位于所述晶圓托盤四周的內腔體，所述內腔體由所述驅動裝置驅動轉動，并且所述蓋板通過所述內腔體連動轉動。
14.根據權利要求10或11所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
所述蓋板通過第二轉動軸旋轉。
15.根據權利要求13所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
所述內腔體設置有排液口。
16.根據權利要求13所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
所述蓋板與所述內腔體上表面之間的距離介于0～5mm。
17.根據權利要求13所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
所述光阻旋涂裝置還包括位于所述內腔體四周的外腔體。
18.根據權利要求17所述的光阻旋涂方法，其特征在于，
所述內腔體通過所述旋轉驅動裝置與所述晶圓托盤共軸轉動。
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