[發(fā)明專利]光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試方法及系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811100735.6
• 申請(qǐng)日: 2018-09-20
• 公開（公告）號(hào): CN109186537A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙懷學(xué);周艷;田留德;趙建科;薛勛;潘亮;胡丹丹;劉藝寧;張潔;曹昆;李坤;賽建剛;昌明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所
• 主分類號(hào): G01C1/02
• 分類號(hào): G01C1/02;G01C25/00
• 代理公司: 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211
• 代理人: 汪海艷

1.一種光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一、將目標(biāo)模擬器固定在待測(cè)光電經(jīng)緯儀上，且使得目標(biāo)模擬器位于待測(cè)光電經(jīng)緯儀的視場(chǎng)范圍內(nèi)，待測(cè)光電經(jīng)緯儀識(shí)別目標(biāo)模擬器并判讀目標(biāo)模擬器位置；

步驟二、調(diào)整待測(cè)光電經(jīng)緯儀的俯仰角，每調(diào)整一次俯仰角，待測(cè)光電經(jīng)緯儀判讀目標(biāo)模擬器位置，記錄待測(cè)光電經(jīng)緯儀目標(biāo)脫靶量；

步驟三、結(jié)合最小二乘法，利用不同俯仰角下的目標(biāo)脫靶量，擬合待測(cè)光電經(jīng)緯儀變形量曲線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試方法，其特征在于：步驟一中通過夾持機(jī)構(gòu)將目標(biāo)模擬器固定在待測(cè)光電經(jīng)緯儀遮光罩的入光口處。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試方法，其特征在于：目標(biāo)模擬器焦面放置十字絲靶標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試方法，其特征在于：步驟二中等間隔角度調(diào)整待測(cè)光電經(jīng)緯儀的俯仰角。

5.一種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述方法的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于：包括目標(biāo)模擬器(1)及夾持機(jī)構(gòu)(2)，所述夾持機(jī)構(gòu)(2)用于將目標(biāo)模擬器(1)固定在待測(cè)光電經(jīng)緯儀(3)上，并使得目標(biāo)模擬器(1)位于待測(cè)光電經(jīng)緯儀(3)的視場(chǎng)范圍內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于：所述目標(biāo)模擬器(1)通過夾持機(jī)構(gòu)(2)固定在待測(cè)光電經(jīng)緯儀(3)遮光罩(4)的入光口處。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于：所述目標(biāo)模擬器(1)焦面放置十字絲靶標(biāo)。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于：所述夾持機(jī)構(gòu)(2)包括環(huán)形支撐部(21)及均布在環(huán)形支撐部外壁的至少兩個(gè)固定臂(22)，固定臂(22)的一端固定在遮光罩(4)上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光電經(jīng)緯儀光學(xué)系統(tǒng)變形測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于：所述目標(biāo)模擬器(1)固定在固定臂(22)上。