[發(fā)明專(zhuān)利]一種低表面光澤度的PVDF薄膜及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811100117.1
• 申請(qǐng)日: 2018-09-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109265881A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 介興明;孫樹(shù)成;曹義鳴;王哲;王仁華;張樹(shù)彬
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 江蘇膜斯寶環(huán)保科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C08L27/16
• 分類(lèi)號(hào): C08L27/16;C08L23/08;C08L83/04;C08K13/04;C08K7/08;C08K7/10;C08K3/22;C08K7/26;C08K3/36;C08K3/30;C08K3/26;C08K3/34;C08J5/18
• 代理公司: 北京文苑專(zhuān)利代理有限公司 11516
• 代理人: 朱青

1.一種低表面光澤度的PVDF薄膜，其特征在于，由如下重量份數(shù)的原料制成：聚偏氟乙烯70-80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10-20份，6-8份硅油，6-8份鈦白粉，0.1-0.5份無(wú)機(jī)晶須，無(wú)機(jī)填料3-5份。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜，其特征在于，所述無(wú)機(jī)填料為二氧化硅，硫酸鎂，碳酸鈣，蒙脫土，硅藻土，云母石中的一種或一種以上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜，其特征在于，所述無(wú)機(jī)晶須為碳酸鎂晶須，氫氧化鎂晶須，氧化鎂晶須，氧化鋅晶須，鈦酸鉀晶須，莫來(lái)石晶須中的一種或一種以上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜，其特征在于，所述原料還包括3-(3，5雙特丁基-4-羥基環(huán)己基)丙酸酯3-5份。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜，其特征在于，所述原料還包括1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羥基芐基)均三嗪3-5份。

6.權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜的制備方法，其特征在于，按照如下步驟進(jìn)行：

(1)按照重量份數(shù)，取聚偏氟乙烯70-80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10-20份，6-8份硅油，6-8份鈦白粉，0.1-0.5份無(wú)機(jī)晶須，無(wú)機(jī)填料3-5份；用高速混合機(jī)將原料各組分混合均勻，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合機(jī)的轉(zhuǎn)速為600-1200rpm，混合時(shí)間為30-80min；

(2)通過(guò)雙螺桿擠出機(jī)熔融、混合并擠出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，擠出溫度為200-260℃，螺桿轉(zhuǎn)速為300-500rpm；

(3)將聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜的制備方法，其特征在于，步驟(3)采用多層流涎機(jī)，擠出溫度200-280℃，螺桿轉(zhuǎn)速為60-100rpm，流涎機(jī)頭溫度為180-250℃，擠出的薄膜經(jīng)冷卻輥冷卻固化，然后纏繞收卷，制成低表面光澤度的PVDF薄膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)還加入3-(3，5雙特丁基-4-羥基環(huán)己基)丙酸酯3-5份。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述低表面光澤度的PVDF薄膜的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)還加入1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羥基芐基)均三嗪3-5份。