[發明專利]苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料及其制備方法

有效

• 申請號: 201811094574.4
• 申請日: 2018-09-19
• 公開（公告）號: CN109293490B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 趙祥華;李莉;吳佳星;鄒國棟;張佳佳
• 申請（專利權）人: 信陽師范學院
• 主分類號: C07C49/792
• 分類號: C07C49/792;C07C49/813;C07C45/46;C07D311/96;C07D335/04;C07D405/10;C09K11/06
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 沈廉

1.一種苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料，其特征在于該材料是將螺環芳烴與苯甲酰基相連，并利用螺環芳烴或苯甲酰基上取代基的結構、位置的不同來控制材料結構、調控材料性質，其具結構如下：

通式I中，R₁為含H原子、F、Br原子或氮的雜環芳烴官能團，n為1到8之間的自然數；所述的

其中，X為C、O、S、CO或者SO₂。

2.根據權利要求1所述的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料，其特征在于，所述的R₁和R₂具體結構如下列化合物及其衍生物：

R₁＝H或F或Br

3.一種如權利要求1或2所述的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料的制備方法，其特征在于該制備方法為：

將螺環芳烴溶于有機溶劑中，以無水三氯化鋁為催化劑，將苯甲酰氯、氟甲酰氯或溴甲酰氯緩慢滴加到反應瓶中，然后在-40-120℃條件下反應，將反應體系恢復到室溫，用飽和碳酸鈉溶液洗滌至堿性，二氯甲烷萃取、無水硫酸鈉干燥、減壓抽濾、濃縮、柱層析得相應的氟苯甲酰基螺環芳烴發光材料或溴苯甲酰基螺環芳烴發光材料；其中R₁或R₂官能團中X為C、O、S、CO或者SO₂。

4.根據權利要求3所述的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料的制備方法，其特征在于：當R₁為含氮的雜環芳烴時，用兩種方法制備，

方法一：將由權利要求3制備的氟苯甲酰基螺環芳烴發光材料、氮雜芳烴、叔丁醇鉀溶于N,N-二甲基甲酰胺中，在氮氣的保護下加熱80-150℃反應0.5-150小時，用大量的水洗滌反應物，然后用二氯甲烷萃取，合并有機相、用無水硫酸鈉干燥、減壓抽濾、濃縮、柱層析得到R₁為氮雜環芳烴的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料；

方法二：將由權利要求3制備的溴苯甲酰基螺環芳烴發光材料、氮雜芳烴、碘化亞銅、18-冠-6、溶于鄰二氯苯中，在氮氣的保護下加熱150-210℃反應0.5-150小時，減壓蒸餾鄰二氯苯，然后用大量的水洗滌反應物，再用二氯甲烷萃取，合并有機相、用無水硫酸鈉干燥、減壓抽濾、濃縮、柱層析得到R₁為氮雜環芳烴的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料。

5.根據權利要求3所述的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料的制備方法，其特征在于所述有機溶劑為：二氯甲烷、氯仿、1,2-二氯乙烷、二硫化碳或四氯化碳。

6.根據權利要求3所述的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料的制備方法，其特征在于，對于R₁或R₂官能團中X＝C的化合物，將所得到的R₁或R₂官能團中X＝C的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料溶于二甲亞砜溶劑中，并加入強堿，在氧氣氛圍下加熱到20-130℃反應0.5-150小時，停止反應后調節其pH值在3-10范圍內用大量的水洗滌反應物，然后用二氯甲烷萃取，合并有機相、用無水硫酸鈉干燥、減壓抽濾、濃縮、柱層析得R₁或R₂官能團中X＝CO的化合物的苯甲酰基螺環芳烴發光材料。

7.根據權利要求3所述的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料的制備方法，其特征在于，對于R₁或R₂官能團中X＝S的化合物，將所得到的R₁或R₂官能團中X＝S的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料溶于二氯甲烷和冰醋酸的混合體系中，以雙氧水作為氧化劑，加熱30-130℃反應0.5-150小時，降低到室溫，用大量的水洗滌反應物，然后用二氯甲烷萃取，合并有機相、用無水硫酸鈉干燥、減壓抽濾、濃縮、柱層析得R₁或R₂官能團中X＝SO₂的化合物的苯甲酰基螺環芳烴發光材料。

8.根據權利要求6所述的苯甲酰基螺環芳烴位阻型發光材料的制備方法，其特征在于所述強堿為：氫化鈉、氫氧化鉀、乙醇鈉、乙醇鉀、叔丁醇鈉或叔丁醇鉀。