[發明專利]地質斷層的封閉性的評價方法、裝置和設備

在審

• 申請號: 201811094087.8
• 申請日: 2018-09-19
• 公開（公告）號: CN109376387A
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發明（設計）人: 陳書平;馮桂民;武剛;袁浩偉;曹默雷;張雨桐;王中昱;李文泳;翟江峰;王建;王信棚
• 申請（專利權）人: 中國石油大學（北京）;中國石油化工股份有限公司勝利油田分公司勘探開發研究院
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩;吳歡燕

1.一種地質斷層的封閉性的評價方法，其特征在于，包括：

對目標地質層的斷層的形成過程進行模擬；

對于所述模擬的過程中地質模擬層所形成的每一狀態，獲取每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度；

根據每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度，獲取所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度之間的函數關系；

根據所述目標地質層的斷層的斷距和所述函數關系，獲取所述目標地質層的斷層中泥巖涂抹層的厚度，根據所述目標地質層的斷層中泥巖涂抹層的厚度評價所述目標地質層的斷層的封閉性。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對目標地質層的斷層的形成過程進行模擬，包括：

將所述地質模擬層鋪設于水平面上，所述水平面由至少兩個可旋轉的剛體的上表面組成，其中，每一剛體的旋轉可使對應的剛體的上表面偏離所述水平面；

將每一剛體按各自對應的角速度同方向進行旋轉，通過每一剛體的旋轉造成的對所述地質模擬層的形變，以實現對所述目標地質層的斷層的形成過程進行模擬。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述獲取每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度，包括：

在將每一剛體按各自對應的角速度同方向進行旋轉的過程中，每隔預設時長采集所述地質模擬層的斷層的圖片；

根據每一圖像獲取每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度，獲取所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度之間的函數關系，包括：

將每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距作為橫坐標，將每一狀態下所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度作為縱坐標，擬合每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度之間的擬合曲線；

根據所述擬合曲線獲取所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度之間的函數關系。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述將所述地質模擬層鋪設于水平面上，包括：

根據所述目標地質層的層級結構確定所述地質模擬層的層級結構，其中，所述地質模擬層的層級結構中的砂巖模擬層對應于所述目標地質層的層級結構中的砂巖層，所述地質模擬層的層級結構中的泥巖模擬層對應于所述目標地質層的層級結構中的泥巖層；

根據所述地質模擬層從下往上的順序，在所述水平面上將所述地質模擬層逐層鋪設，其中，每一砂巖模擬層的材質為石英砂，每一泥巖模擬層的材質為滑石粉。

6.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述將每一剛體按各自對應的角速度同方向進行旋轉之前，包括：

根據所述目標地質層的斷層的形成速度，并基于時間相似性原則，確定每一剛體各自對應的角速度。

7.一種地質斷層的封閉性的評價裝置，其特征在于，包括：模擬模塊、第一獲取模塊、第二獲取模塊和評價模塊；

所述模擬模塊，用于對目標地質層的斷層的形成過程進行模擬；

所述第一獲取模塊，用于對于所述模擬的過程中地質模擬層所形成的每一狀態，獲取每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度；

所述第二獲取模塊，用于根據每一狀態下所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度，獲取所述地質模擬層中斷層的斷距和所述地質模擬層的斷層中泥巖涂抹模擬層的厚度之間的函數關系；

所述評價模塊，用于根據所述目標地質層的斷層的斷距和所述函數關系，獲取所述目標地質層的斷層中泥巖涂抹層的厚度，根據所述目標地質層的斷層中泥巖涂抹層的厚度評價所述目標地質層的斷層的封閉性。