[發明專利]制備氧化鈦微納米陣列擔載單原子鉑催化劑的方法

在審

• 申請號: 201811093639.3
• 申請日: 2018-09-19
• 公開（公告）號: CN109201047A
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發明（設計）人: 唐文翔;王思博;郭彥炳;高普獻;陳松華
• 申請（專利權）人: 福建龍新三維陣列科技有限公司
• 主分類號: B01J23/42
• 分類號: B01J23/42
• 代理公司: 北京五月天專利商標代理有限公司 11294
• 代理人: 李永聯

1.制備氧化鈦微納米陣列擔載單原子鉑催化劑的方法，其特征包括如下步驟：

第一步：金紅石氧化鈦納米陣列在蜂窩陶瓷基底上的水熱生長；

第二步：納米陣列集成的蜂窩陶瓷在鉑活性前驅體中浸漬；

第三步：過剩溶液排除；

第四步：微波輻射加熱烘干，烘干時間為1~20分鐘，優選為2~10分鐘；

第五步：高溫煅燒。

2.根據權利要求1所述的方法，所述金紅石氧化鈦納米陣列在蜂窩陶瓷基底上的水熱生長包括堇青石蜂窩基底在經過氧化鈦晶種加載后，被整體浸入氧化鈦生長溶液中，并密封在高壓反應器中進行水熱生長。

3.根據權利要求1所述的方法，所述氧化鈦生長溶液包括氧化鈦有機前驅體，鹽酸，有機溶劑混合制成，所述有機溶劑選自甲苯、丁酮和正己烷中的一種或多種的組合。

4.根據權利要求1所述的方法，所述納米陣列集成的蜂窩陶瓷在鉑活性前驅體中浸漬包括：在水熱生長過后，氧化鈦納米陣列集成的蜂窩陶瓷通過清理烘干后，被浸入鉑活性前驅體水溶液中，并將溶液和基底置于超聲波裝置中0.5~2分鐘以排除納米陣列中的氣泡。

5.根據權利要求1所述的方法，所述過剩溶液排除包括：將蜂窩基底從鉑前驅體水溶液中取出時，用氣刀將多余溶液從蜂窩基底孔道內吹出。

6.根據權利要求1所述的方法，所述微波輻射加熱烘干包括：將氣刀處理過的蜂窩基底轉移至微波加熱箱里烘干。

7.根據權利要求6所述的方法，在烘干過程中，蜂窩基底在微波加熱箱內保持旋轉，以平衡蜂窩基底各處的干燥速率。

8.根據權利要求1所述的方法，所述高溫煅燒包括將干燥后的蜂窩基底轉移至高溫煅燒爐內，并緩慢升溫至煅燒溫度。