[發(fā)明專利]氧化鋯陶瓷表面處理方法及氧化鋯陶瓷制品

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201811093456.1
• 申請日: 2018-09-19
• 公開（公告）號: CN109053228A
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳蘭桂;劉星;張小勇;譚嬌嬌
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞信柏結(jié)構(gòu)陶瓷股份有限公司
• 主分類號: C04B41/91
• 分類號: C04B41/91;C04B41/88;C04B41/85
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 崔明思

本發(fā)明公開了氧化鋯陶瓷表面處理方法及氧化鋯陶瓷制品。上述的氧化鋯陶瓷表面處理方法，包括如下步驟：將氧化鋯陶瓷制品的表面按照字符或圖案的形狀進(jìn)行雕刻，形成深度為0.1mm?0.2mm的字符或圖案；采用PVD真空鍍膜的方法在所述字符或圖案內(nèi)鍍上金屬或者金屬化合物，并將所述金屬或者金屬化合物填滿所述字符或圖案，以使所述字符或圖案顯示出相應(yīng)的顏色；氧化鋯陶瓷制品由上述的氧化鋯陶瓷表面處理方法制備而成。本發(fā)明所述鋁合金表面處理方法，可以在陶瓷制品上制備出需要的顏色和字符、圖案，使得陶瓷制品的外觀更符合個(gè)性化的要求。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及氧化鋯陶瓷表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及氧化鋯陶瓷表面處理方法及氧化鋯陶瓷制品。

背景技術(shù)

氧化鋯陶瓷由于其具有高韌性、高抗彎強(qiáng)度、高耐磨性及優(yōu)異的隔熱性能越來越受到消費(fèi)者的喜愛，氧化鋯陶瓷也越來越多地應(yīng)用于電子產(chǎn)品，例如手機(jī)、電腦、手表等產(chǎn)品。而氧化鋯陶瓷由于加工比較困難，其顏色一般比較單一，尤其是制作成手表時(shí)，表圈的字符色彩比較單一，難以滿足個(gè)性化的需求。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，本發(fā)明有必要提供一種氧化鋯陶瓷表面處理方法，其可以在陶瓷制品上制備出需要的顏色和字符、圖案，使得陶瓷制品的外觀更符合個(gè)性化的要求。

本發(fā)明還有必要提供一種氧化鋯陶瓷制品。

為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種氧化鋯陶瓷表面處理方法，其包括如下步驟：

將氧化鋯陶瓷制品的表面按照字符或圖案的形狀進(jìn)行雕刻，形成深度為0.1mm-0.2mm的字符或圖案；

采用PVD真空鍍膜的方法在所述字符或圖案內(nèi)鍍上金屬或者金屬化合物，并將所述金屬或者金屬化合物填滿所述字符或圖案，以使所述字符或圖案顯示出相應(yīng)的顏色。

上述的氧化鋯陶瓷表面處理方法，采用雕刻的方式先制作出字符或者圖案，然后再通過PVD的方法在上述的字符或者圖案內(nèi)鍍上有顏色的金屬或金屬氧化物，這樣陶瓷制品上就會(huì)呈現(xiàn)出需要的顏色和字符、圖案，使得陶瓷制品的外觀更符合個(gè)性化的要求。

其中一些實(shí)施例中，采用激光鐳雕的方法進(jìn)行雕刻。

其中一些實(shí)施例中，所述激光鐳雕的頻率為32Hz-38Hz，掃描速度為780mm/s-820mm/s。

其中一些實(shí)施例中，所述字符或圖案的深度為0.13mm-0.17mm。

其中一些實(shí)施例中，所述PVD真空鍍膜的方法為：所述PVD真空鍍膜的方法為：將所述氧化鋯陶瓷制品裝入PVD真空鍍膜機(jī)，抽真空后為所述氧化鋯陶瓷制品加上350V-450V的電壓，通過電場和磁場的作用使所述金屬靶或金屬氧化物靶在所述字符或圖案上形成涂層。

其中一些實(shí)施例中，所述PVD真空鍍膜的方法為：將所述氧化鋯陶瓷制品裝入PVD真空鍍膜機(jī)，抽真空后充入適量氧氣，為所述氧化鋯陶瓷制品加上350V-450V的電壓，金屬與所述氧氣反應(yīng)生成金屬氧化物，通過電場和磁場的作用使所述金屬氧化物靶在所述字符或圖案上形成涂層。

其中一些實(shí)施例中，所述PVD真空鍍膜步驟之前，還具有如下步驟：將所述氧化鋯陶瓷制品采用超聲波進(jìn)行清洗。

其中一些實(shí)施例中，所述字符或圖案的數(shù)量為一個(gè)或多個(gè)，多個(gè)所述字符或圖案的顏色相同或相異。

本發(fā)明還提供一種氧化鋯陶瓷制品，由所述的氧化鋯陶瓷表面處理方法制備而成。

其中一些實(shí)施例中，所述的氧化鋯陶瓷制品為氧化鋯陶瓷表圈。

具體實(shí)施方式