[發(fā)明專利]一種封閉式電噴霧萃取電離源裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201811092981.1
• 申請(qǐng)日: 2018-09-19
• 公開（公告）號(hào): CN109187711A
• 公開（公告）日: 2019-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 董曉峰;陳煥文
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東華理工大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N27/62
• 分類號(hào): G01N27/62;H01J49/16
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 趙永麗;魯兵

本發(fā)明提供一種封閉式電噴霧萃取電離源裝置，包括綜合接口組件、電噴霧調(diào)節(jié)模塊、樣品噴霧調(diào)節(jié)模塊、待測(cè)氣體引入套件、離子源、攝像頭以及用于固定上述各部件的腔體，腔體為封閉的中空框架結(jié)構(gòu)，電噴霧調(diào)節(jié)模塊和樣品噴霧調(diào)節(jié)模塊分別安裝在主體框架的第一側(cè)面和第二側(cè)面上且對(duì)稱設(shè)置，離子源封閉于腔體的腔室內(nèi)，質(zhì)譜儀進(jìn)樣口與腔體的腔室相連通；攝像頭分別安裝在腔體的上部和電噴霧調(diào)節(jié)模塊上。本發(fā)明裝置采用封閉式結(jié)構(gòu)，離子源位于密封腔體的腔室內(nèi)，離子源或氣體進(jìn)樣組件的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)不會(huì)造成離子源尖端或氣體進(jìn)樣組件的頭部平移，實(shí)現(xiàn)離子源或氣體進(jìn)樣組件的大角度調(diào)節(jié)；外部環(huán)境對(duì)電離的影響小，該裝置穩(wěn)定性高，尤其適用于氣體成分檢測(cè)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電噴霧萃取電離源裝置，具體涉及一種既可用于常規(guī)物質(zhì)檢測(cè)、又能用于氣體成分檢測(cè)的封閉式電噴霧萃取電離源裝置。

背景技術(shù)

電噴霧萃取電離(Extractive Electro-Spray Ionization，EESI)質(zhì)譜(MassSpectrometry，MS)分析技術(shù)是一種現(xiàn)代電離質(zhì)譜技術(shù)，具有無需對(duì)樣品作復(fù)雜預(yù)處理即可獲得待測(cè)物的相對(duì)分子質(zhì)量和結(jié)構(gòu)信息的特點(diǎn)，特別地，該技術(shù)可以對(duì)高水分含量的氣溶膠樣品進(jìn)行直接分析，因此對(duì)空氣、人體呼出氣體等氣體樣品的成分檢測(cè)具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)，近年來成為研究熱點(diǎn)。EESI源是EESI-MS技術(shù)的核心，主要由電噴霧通道和樣品噴霧通道構(gòu)成。研究表明，實(shí)驗(yàn)中，外部環(huán)境、電離電壓、氣體/液體流速、EESI源和質(zhì)譜儀進(jìn)樣口之間的空間位置與角度關(guān)系等因素，對(duì)質(zhì)譜分析信號(hào)有顯著的影響。

然而，由于EESI源和質(zhì)譜儀進(jìn)樣口之間的空間位置與角度調(diào)節(jié)的復(fù)雜性，現(xiàn)有裝置一般為敞開式結(jié)構(gòu)，無法對(duì)整個(gè)電離過程進(jìn)行封閉隔離，雖然使用方便、成本低廉，但是EESI源受外部環(huán)境的影響較大，綜合性能差，特別是對(duì)氣體樣品進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，這種外部環(huán)境的影響尤其大；并且現(xiàn)有的調(diào)節(jié)裝置在調(diào)節(jié)EESI源的角度時(shí)，EESI源的轉(zhuǎn)動(dòng)往往會(huì)造成ESSI源的尖端平移偏離預(yù)定的位置，因而現(xiàn)有的調(diào)節(jié)裝置有效調(diào)節(jié)角度范圍較小，無法滿足ESSI源在一些場(chǎng)合下大角度調(diào)節(jié)的需求；也有的實(shí)驗(yàn)裝置是在商用儀器基礎(chǔ)上改裝而成的，穩(wěn)定性、重復(fù)性差，或者布局不合理，不利于排污，易污染質(zhì)譜儀，嚴(yán)重限制了EESI-MS技術(shù)的應(yīng)用與發(fā)展。

授權(quán)公告號(hào)為CN 104008949B的發(fā)明專利提供一種用于電噴霧萃取電離源的可調(diào)裝置，該裝置設(shè)置有X、Y、Z三方向的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)和旋轉(zhuǎn)部件，能夠調(diào)節(jié)電噴霧通道噴頭、樣品通道噴頭與質(zhì)譜儀進(jìn)樣口的角度和距離，其不足之處在于，該裝置為敞開式結(jié)構(gòu)，無法對(duì)整個(gè)電離過程進(jìn)行封閉隔離，電離過程受外界影響大，對(duì)氣體樣品的檢測(cè)影響尤其大；電噴霧通道噴頭與樣品通道噴頭設(shè)置在下部連接板上且左、右布置，下部未設(shè)置排污結(jié)構(gòu)，不利于排污，易污染質(zhì)譜儀，并且電噴霧通道噴頭與樣品通道噴頭在水平方向上旋轉(zhuǎn)時(shí)，噴頭尖端偏離預(yù)定位置，角度調(diào)節(jié)范圍小。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題，本發(fā)明提供一種布局緊湊、配置靈活、使用方便的封閉式電噴霧萃取電離源，其能夠減小外部環(huán)境對(duì)電離過程的影響，既可用于檢測(cè)常規(guī)物質(zhì)，還可用于氣體成分檢測(cè)。

本發(fā)明的上述目的是由以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的：

一種封閉式電噴霧萃取電離源裝置，包括用于安裝質(zhì)譜儀的綜合接口組件(1)、、電噴霧調(diào)節(jié)模塊(3)和樣品噴霧調(diào)節(jié)模塊(4)以及一用于固定綜合接口組件(1)、電噴霧調(diào)節(jié)模塊(3)和樣品噴霧調(diào)節(jié)模塊(4)的腔體(2)，腔體(2)為封閉的中空框架結(jié)構(gòu)，包括主體框架(21)以及分別安裝在主體框架(21)的上面、下面、前面、后面、第一側(cè)面、第二側(cè)面的上蓋組件(22)、下蓋組件(25)、綜合接口組件(1)、后蓋組件(26)、第一側(cè)蓋組件(23)和第二側(cè)蓋組件(24)形成的封閉式腔室，電噴霧調(diào)節(jié)模塊(3)和樣品噴霧調(diào)節(jié)模塊(4)分別安裝在主體框架(21)的第一側(cè)面和第二側(cè)面上且對(duì)稱設(shè)置，安裝在電噴霧調(diào)節(jié)模塊(3)和/或樣品噴霧調(diào)節(jié)模塊(4)上的離子源(5)封閉于腔體(2)的腔室內(nèi)，質(zhì)譜儀進(jìn)樣口與腔體(2)的腔室相連通。