[發明專利]一種日用陶瓷上釉設備

在審

• 申請號: 201811087339.4
• 申請日: 2018-09-18
• 公開（公告）號: CN109016097A
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 黃建宏;戴春梅;黃慧宇;蘇志強
• 申請（專利權）人: 房素珍
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B01F5/00
• 代理公司: 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427
• 代理人: 陳娟

本發明提供一種日用陶瓷上釉設備，涉及陶瓷上釉技術領域。實現了均勻上釉的效果。該日用陶瓷上釉設備，包括本體裝置、轉動裝置、抹勻裝置和噴釉裝置，轉動裝置、抹勻裝置和噴釉裝置均位于本體裝置的內部，轉動裝置位于本體裝置的底部，抹勻裝置位于噴釉裝置和轉動裝置之間，本體裝置包括底板，底板的頂部固定安裝有滑桿。該日用陶瓷上釉設備，通過電動伸縮桿調整抹勻裝置的水平長度，使抹勻塊與陶瓷粗坯接觸，通過第二限位彈簧與第一限位彈簧的共同作用下使抹勻塊能夠隨著陶瓷表面的起伏調整角度，從而達到了將陶瓷表面的釉層抹勻的效果，解決了陶瓷表面的釉層過厚，導致陶瓷在燒制時釉層開裂從而降低陶瓷價值的問題。

技術領域

本發明涉及陶瓷上釉技術領域，特別的為一種日用陶瓷上釉設備。

背景技術

用陶土和瓷土這兩種不同性質的粘土為原料，經過配料、成型、干燥、焙燒等工藝流程制成的器物稱之為陶瓷。

釉是覆蓋在陶瓷制品表面的無色或有色的玻璃質薄層，是用礦物原料按一定比例配合經過研磨制成釉漿，施于坯體表面，經一定溫度煅燒而成，能增加制品的機械強度、熱穩定性和電介強度，還能美化器物、便于拭洗、不被塵土腥穢侵蝕，

現有的陶瓷上釉裝置是將釉漿涂抹在陶瓷的表面，讓釉漿在重力的作用下隨著陶瓷表面向下流動從而降低釉層的厚度，當釉漿比較濃稠時因釉漿的粘度大，導致釉漿在重力的作用往下流動的效果較差，導致陶瓷表面的釉涂層厚度過厚，使陶瓷在燒制時釉層開裂從而降低陶瓷的價值。

發明內容

本發明提供的發明目的在于提供一種日用陶瓷上釉設備，該日用陶瓷上釉設備，能夠均勻的上釉。

為實現以上目的，本發明通過以下技術方案予以實現：一種日用陶瓷上釉設備，包括本體裝置、轉動裝置、抹勻裝置和噴釉裝置，所述轉動裝置、抹勻裝置和噴釉裝置均位于本體裝置的內部，所述轉動裝置位于本體裝置的底部，所述抹勻裝置位于噴釉裝置和轉動裝置之間。

所述本體裝置包括底板，所述底板的頂部固定安裝有滑桿，所述滑桿的頂部固定安裝有頂板。

所述轉動裝置包括電機箱，所述電機箱的內部套設有伺服電機，所述伺服電機的輸出端活動安裝有轉盤，所述轉盤的頂部固定安裝有擋盤。

所述抹勻裝置包括滑塊，所述滑塊的左側固定安裝有固定卡盒，所述固定卡盒的右端套設有卡桿，所述卡桿表面套設有復位彈簧，卡桿的左端設有卡盤，所述卡盤的正后方通過轉軸與固定卡盒活動連接，所述轉軸的正后方固定安裝有旋鈕，滑塊的左端固定安裝有電動伸縮桿，所述電動伸縮桿的左端固定安裝有第一支撐桿，所述第一支撐桿的左端活動安裝有支撐板，第一支撐桿的頂部和底部均活動安裝有第一拉桿，所述第一拉桿的左端固定安裝有第一限位彈簧，所述第一限位彈簧的左端固定安裝有第二拉桿，所述第二拉桿的左端與支撐板活動連接，所述支撐板的左端固定安裝有第二支撐桿，所述第二支撐桿的左端活動安裝有抹勻塊。

所述噴釉裝置包括風機，所述風機的輸出端連通有送風管，所述送風管遠離風機的一端連通有噴氣管，所述噴氣管的表面套設有儲釉箱，所述儲釉箱的左側連通有第一出釉管，所述第一出釉管遠離儲釉箱的一端連通有吸收氣泡塊，所述吸收氣泡塊的內部套設有大孔過濾網，吸收氣泡塊的頂部連通有第二出釉管，所述第二出釉管的底部連通有攪拌裝置，所述攪拌裝置的底部連通有出釉口，儲釉箱的頂部套設有出氣塊，所述出氣塊的內部套設有透風板，所述透風板的頂部固定安裝有阻力彈簧，所述阻力彈簧的頂部固定安裝有阻力片。

所述攪拌裝置包括套管，所述套管的內部固定安裝有支桿，所述支桿的頂部活動安裝有攪拌軸，所述攪拌軸的頂部固定安裝有攪拌扇葉。

優選的，所述電機箱的底部與底板固定連接，所述底板的頂部固定安裝有連接桿，所述連接桿的頂部與頂板固定連接。

優選的，所述轉盤的頂部固定安裝有置物盤，所述置物盤的表面開設有透釉孔。