[發明專利]帷幕下限動態設計方法及裝置

有效

• 申請號: 201811083280.1
• 申請日: 2018-09-18
• 公開（公告）號: CN109183823B
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 向國興;劉子金
• 申請（專利權）人: 貴州省水利水電勘測設計研究院有限公司
• 主分類號: E02D19/16
• 分類號: E02D19/16
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 周宇

本發明公開了一種帷幕下限動態設計方法及裝置，包括：獲取帷幕灌漿孔在已規劃的灌段中最下層的M個灌段灌漿的單位注入量；若所述最下層的M個灌段中存在灌段的單位注入量大于受灌地層平均單位注入量的X倍，則在所述最下層的M個灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段規劃。本發明所提供的帷幕下限動態設計方法，在灌漿施工過程中，根據對灌漿孔的灌段灌漿的實時數據，對帷幕下限進行動態調整，增加了徹底封閉局地侵蝕基準面下滲漏溶隙的機率。

技術領域

本發明涉及水利水電工程技術領域，具體而言，涉及一種帷幕下限動態設計方法及裝置。

背景技術

巖溶山區的河流一般河谷深切，谷坡陡峻，水流湍急，具備修建水庫大壩的良好地形條件。但是，相伴而生的巖溶及巖溶滲漏問題，卻是在巖溶地區興建水利水電工程首先應該解決的問題，采用防滲帷幕是巖溶地區解決該問題的常用方法。其中，對于防滲帷幕的設置深度，通常在前期依據地質勘察資料，結合場區內巖溶發育規律來確定，但是，由于巖溶工程地質與水文地質條件的復雜性、特殊性，勘察期間不可能將防滲帷幕區的地質情況全部查明、掌握清楚，局地侵蝕基準面以下一定深度范圍內可能尚存在局部的溶隙流現象，因此規劃的防滲帷幕的下限深度存在無法將溶蝕通道全部封閉的情況。

發明內容

本發明的目的在于提供一種帷幕下限動態設計方法及裝置，根據鉆孔灌漿過程中實時監測的數據，動態調整帷幕深度，以解決上述問題。

本發明第一方面提供一種帷幕下限動態設計方法，包括：

獲取帷幕灌漿孔在已規劃的灌段中最下層的M個灌段灌漿的單位注入量；

若所述最下層的M個灌段中存在灌段的單位注入量大于受灌地層平均單位注入量的X倍，則在所述最下層的M個灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段規劃。

可選地，M＝3，X＝2。

可選地，所述若所述最下層的M個灌段中存在灌段的單位注入量大于受灌地層平均單位注入量的X倍，則在所述最下層的M個灌段的下方增加新的灌段，包括：

判斷所述最下層的M個灌段中倒數第三段灌段的單位注入量是否大于所述平均單位注入量的兩倍；

若大于，則在已規劃的灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段規劃。

可選地，在判斷所述最下層的M個灌段中倒數第三段灌段的單位注入量是否大于所述平均單位注入量的兩倍之后，所述方法還包括：

若所述最下層的M個灌段中倒數第三段灌段的單位注入量不大于所述平均單位注入量的兩倍，則判斷所述最下層的M個灌段中倒數第二段灌段的單位注入量是否大于所述平均單位注入量的兩倍；

若所述最下層的M個灌段中倒數第二段灌段的單位注入量大于所述平均單位注入量的兩倍，則在已規劃的灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段規劃。

可選地，在判斷所述最下層的M個灌段中倒數第二段灌段的單位注入量是否大于所述平均單位注入量的兩倍之后，所述方法還包括：

若所述最下層的M個灌段中倒數第二段灌段的單位注入量不大于所述平均單位注入量的兩倍，則判斷所述最下層的M個灌段中最后一段灌段的單位注入量是否大于所述平均單位注入量的兩倍；

若所述最下層的M個灌段中最后一段灌段的單位注入量大于所述平均單位注入量的兩倍，則在已規劃的灌段的下方增加新的灌段，并更新灌段規劃；

若所述最下層的M個灌段中最后一段灌段的單位注入量不大于所述平均單位注入量的兩倍，則將所述已規劃的灌段確定為最終的灌段規劃，并確定所述最終的灌段規劃中最后一段灌段的底線為帷幕下限。

可選地，在所述獲取帷幕灌漿孔在已規劃的灌段中最下層的M個灌段灌漿的單位注入量之前，所述方法還包括：