[發明專利]突釉及其制備方法

在審

• 申請號: 201811077103.2
• 申請日: 2018-09-15
• 公開（公告）號: CN109111113A
• 公開（公告）日: 2019-01-01
• 發明（設計）人: 姚威;譚建華;楊三喜;羅建平
• 申請（專利權）人: 湖南高峰陶瓷制造有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C04B41/89
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 何耀煌

1.一種突釉，其特征在于它包括底釉和劃或點在底釉上的面釉；其中，所述面釉含有的組分及各組分質量份如下：

鈉長石20-40份；

石英10-20份；

粘士5-7份；

方解石10-15份；

碳酸鋇5-7份；

硅酸鋯5-10份；

粘劑粉0.5-2份；

所述底釉含有的組分及各組分質量份如下：

鉀長石20-30份；

鈉長石25-30份；

方解石16-18份；

碳酸鋇6-8份；

石英25-30份；

粘士10-15份；

氧化鋅3-5份。

2.一種如權利要求1所述的突釉的制備方法，其特征在于方法中含有的步驟如下：

S1：分別制作面釉漿和底釉漿；其中，面釉漿的制備工藝如下：

按照面釉的各組分及各組分質量份備料；

按照面釉料：球：水的質量比＝1:1:1.4，濕法球磨16～20小時，球磨后的面釉料過325目篩后，調制成比重為1.4～1.6的面釉漿待用；

底釉漿的制備工藝如下：

按照底釉的各組分及各組分質量份備料；

按照底釉料：球：水的質量比＝1:1:1.4，濕法球磨16～20小時，球磨后的底釉料過325目篩后，調制成比重為1.4～1.6的底釉漿待用；

S2：取干凈的坯體，在坯體上上底釉漿，形成底釉，然后在底釉上劃或點上面釉漿，然后在1180℃-1250℃的溫度環境下燒制而成。