[發(fā)明專利]薄膜制備設(shè)備及其反應(yīng)腔室

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811076455.6
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN110904437A
• 公開（公告）日: 2020-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊康
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/26
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

1.一種薄膜制備設(shè)備的反應(yīng)腔室，其特征在于，包括腔體以及設(shè)置在所述腔體內(nèi)的載物平臺；

所述腔體包括：

進(jìn)氣口，設(shè)置在所述載物平臺的上方，用于輸入反應(yīng)氣體；

筒形的側(cè)壁，設(shè)置有位于同一水平高度、由側(cè)壁的內(nèi)周壁凹陷形成且環(huán)繞所述載物平臺分布的多個排氣孔；以及

排氣流道，連通于每個所述排氣孔；

其中，所述排氣流道抽氣時，載物平臺上方的氣體從中間均勻地向四周流動。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述排氣流道包括設(shè)置在所述側(cè)壁內(nèi)的環(huán)空流道以及分別連通所述環(huán)空流道對稱兩側(cè)的兩個第一通道；

多個所述排氣孔均從所述內(nèi)周壁延伸到所述環(huán)空流道。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述腔體還包括覆蓋在所述側(cè)壁的底部的底壁，兩個所述第一通道從所述環(huán)空流道向下延伸到所述底壁；

所述排氣流道還包括設(shè)置在所述底壁的中部的出氣口，以及設(shè)置在所述側(cè)壁內(nèi)且分別從兩個所述第一通道延伸到所述出氣口的兩個第二通道。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，多個所述排氣孔均分為分別靠近兩個所述第二通道的兩組排氣孔，每組排氣孔與其最接近的第二通道相對應(yīng)；

在每組排氣孔中，越接近其所對應(yīng)的第二通道則相鄰兩個所述排氣孔之間的間距越大。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，在每組排氣孔中，越接近其所對應(yīng)的第二通道則排氣孔的孔徑越小。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述腔體還包括覆蓋在所述側(cè)壁的頂端的頂壁，所述進(jìn)氣口設(shè)置在所述頂壁的中部。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述多個排氣孔均勻環(huán)繞所述載物平臺；

所述腔體還包括：

覆蓋所述側(cè)壁的頂端的頂壁，所述進(jìn)氣口設(shè)置在所述頂壁的中部且朝向所述載物平臺；

覆蓋所述側(cè)壁的底端的底壁，所述底壁的中部下方設(shè)置有用于排出所述腔體內(nèi)的氣體的出氣口；

其中，所述腔體的壁面內(nèi)還設(shè)置有連通排氣孔和出氣口的排氣流道，腔體內(nèi)的氣體從每個排氣孔經(jīng)排氣流道到達(dá)出氣口的路徑相等。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述排氣流道包括設(shè)置在側(cè)壁內(nèi)的第一流道和設(shè)置在底壁內(nèi)的第二流道；

所述第一流道從每個排氣孔延伸到所述第二流道，所述第二流道從所述第一流道延伸到所述出氣口。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述第一流道為沿著所述側(cè)壁的軸向延伸的直流道，所述第二流道為從每個第一流道從徑向延伸到所述出氣口的直流道。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述第一流道為一端連通每個排氣孔、另一端連通所述第二流道的環(huán)空腔室。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述第二流道為圓盤形的腔室，所述第一流道的端部連接所述第二流道的邊緣，所述出氣口連通于所述第二流道的中部。

12.根據(jù)權(quán)利要求7至11中任一項所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述排氣孔的橫截面為長軸水平設(shè)置的橢圓形。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述橫截面的面積為0.5π～2πcm²。

14.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述側(cè)壁為圓筒形，所述載物平臺為圓形板，所述側(cè)壁與所述載物平臺同軸設(shè)置。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的反應(yīng)腔室，其特征在于，所述排氣孔平齊于所述載物平臺的承載面。

16.一種薄膜制備設(shè)備，其特征在于，包括根據(jù)權(quán)利要求1至15中任一項所述的反應(yīng)腔室。