[發(fā)明專利]一種固定流化工藝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811076280.9
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN109395675B
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 冉祎;何鵬;袁中華;李壽琴;聶秋艷
• 申請（專利權(quán)）人: 四川永祥多晶硅有限公司
• 主分類號: B01J8/28
• 分類號: B01J8/28;C01B33/107
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王學強;羅滿

1.一種固定流化工藝，其特征在于，包括：

向流化床反應(yīng)器的N個進料口加入物料，使流化床反應(yīng)器內(nèi)由下至上依次分布的N層流化腔內(nèi)堆積有物料，每層流化腔內(nèi)物料的平均粒徑大于其下方相鄰的流化腔內(nèi)的物料的平均粒徑；

加熱流化床反應(yīng)器，向流化床反應(yīng)器內(nèi)通入流體，調(diào)節(jié)流體流速，使流化床反應(yīng)器內(nèi)由下至上最多不超過(N-1)層物料流化，且頂層至少一層物料固定；

流體與物料反應(yīng)，得到經(jīng)頂層至少一層物料過濾后的氣體混合物；

N為大于或等于2的自然數(shù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種固定流化工藝，其特征在于，所述流化床反應(yīng)器內(nèi)由下至上水平設(shè)置有N個水平設(shè)置的氣體分布器，所述氣體分布器上方為聯(lián)通有進料口的流化腔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種固定流化工藝，其特征在于，當N＝2時，所述流化腔包括一底層流化腔和一頂層流化腔；

當N≥3時，流化腔包括由下至上的一底層流化腔、至少一中間層流化腔和一頂層流化腔。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種固定流化工藝，其特征在于，所述底層流化腔的物料平均粒徑小于或等于250μm，所述中間層流化腔的物料平均粒徑為250-650μm，所述頂層流化腔的物料平均粒徑大于或等于650μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種固定流化工藝，其特征在于，所述底層流化腔的物料的密度為2500-2560kg/m³；所述中間層流化腔的物料的密度為2450-2520kg/m³；所述頂層流化腔的物料的密度為2310-2460kg/m³。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種固定流化工藝，其特征在于，所述流體通入流化床反應(yīng)器的流速為0.08-0.21m/s，在此流速下，至少所述底層流化腔內(nèi)的物料流化，且所述頂層流化腔內(nèi)的物料固定。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種固定流化工藝，其特征在于，所述流化床反應(yīng)器內(nèi)設(shè)置有加熱裝置，所述加熱裝置為微波加熱器、電阻加熱裝置或石墨加熱電極；所述加熱裝置用于加熱流化床反應(yīng)器內(nèi)部，使所述流化床反應(yīng)器內(nèi)部溫度為250-330℃。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種固定流化工藝，其特征在于，所述流化床反應(yīng)器內(nèi)流體與物料反應(yīng)時的壓力為0.22MPa-0.3MPa。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種固定流化工藝，其特征在于，經(jīng)頂層至少一層物料過濾后的所述氣體混合物的脈動壓力方差小于或等于0.12。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種固定流化工藝，其特征在于，所述流化床反應(yīng)器的頂部設(shè)置排氣口，所述排氣口聯(lián)通有分離組件，所述分離組件用于冷卻分離所述氣體混合物。