[發明專利]一種編碼光譜成像系統的數據修正方法有效
| 申請號: | 201811075894.5 | 申請日: | 2018-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN109405967B | 公開(公告)日: | 2019-12-03 |
| 發明(設計)人: | 李立波;唐興佳;王爽;王鋒;胡炳樑;閆鵬;馮向朋 | 申請(專利權)人: | 中國科學院西安光學精密機械研究所 |
| 主分類號: | G01J3/28 | 分類號: | G01J3/28 |
| 代理公司: | 61211 西安智邦專利商標代理有限公司 | 代理人: | 汪海艷<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 像元 編碼光譜 編碼模板 成像系統 數據修正 校正 編碼數據重構 編碼誤差 編碼重構 成像誤差 解決系統 原始數據 暗電流 歸一化 擬合 修正 替代 | ||
1.一種編碼光譜成像系統的數據修正方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:對編碼模板圖像與實際觀測圖像中的壞像元進行校正;
步驟1.1):確定壞像元的位置;
步驟1.2):修正編碼模板圖像與實際觀測圖像中的壞像元;
步驟二:對編碼模板的模板數據進行修正;
步驟1.1)具體為:
首先,在黑暗條件下,對探測器進行成像,確定亮像元位置,記為(X1,Y1);
然后,在積分球照射下,再對探測器進行成像試驗,確保成像區域的幅值不飽和,確定暗像元位置,記為(X2,Y2);
壞像元位置為:
(X,Y)=(X1,Y1)||(X2,Y2);
步驟1.2)具體為:
編碼模板圖像中壞像元的修正:
當編碼光譜成像系統為壓縮編碼光譜成像系統時,將步驟1.1)中確定的壞像元幅值修正為該像元對應實際設計的編碼值;
當編碼光譜成像系統為哈達碼編碼光譜成像系統時,采用臨近點列平均法對亮條紋中的壞像元校正和暗條紋中的壞像元校正;
實際觀測圖像中壞像元的修正;
采用二維窗平均法、插值法或擬合法對步驟1.1)中確定的壞像元位置處的壞像元進行修正;
臨近點列平均法具體為:
將亮條紋中的暗像元幅值Dd/l(i,j)校正為:1/2*[Dd/l(i,j-1)+Dd/l(i,j+1)]
將暗條紋中的亮像元幅值Dl/d(i,j)校正為:1/2*[Dl/d(i,j-1)+Dl/d(i,j+1)]
其中d/l表示亮條紋中的暗像元,l/d表示暗條紋中的亮像元,i,j表示當前像元的位置坐標;
二維窗平均法具體為:
假設窗半徑大小設置為s,則二維窗平均法可表示為:
其中m,n表示求和時取的位置坐標。
2.根據權利要求1所述的編碼光譜成像系統的數據修正方法,其特征在于:
所述步驟二具體為:
當為壓縮編碼光譜成像系統時:
首先去除暗電流,其次對編碼模板圖像數據進行二維曲面擬合,得到擬合曲面數據;然后,將編碼模板圖像數據除以擬合曲面數據,獲得校正后的二維編碼模板數據;最后,對校正后的二維編碼模板數據進行歸一化處理和0-1截斷處理;
當為哈達碼編碼光譜成像系統時:先進行去暗電流,其次,對編碼模板圖像數據做光譜維方向的多項式擬合,得到光譜維編碼模板圖像擬合數據,然后將編碼模板圖像數據除以擬合得到的光譜維編碼模板圖像擬合數據,獲得校正后的光譜維編碼模板數據,最后,對校正后的光譜維編碼模板數據進行歸一化處理和0-1截斷處理。
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