[發明專利]掩膜板、顯示基板的制備方法、顯示基板及顯示裝置

有效

• 申請號: 201811073847.7
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN109161843B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 白妮妮;薛智勇
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 柴亮;張天舒

1.一種掩膜板，其特征在于，

包括掩膜區，用以對應顯示基板的顯示區；所述顯示基板的顯示區包括主顯示區和環繞主顯示區的邊緣顯示區；所述掩膜區包括：開口區和環繞所述開口區的遮擋區；

其中，所述開口區用以對應所述顯示基板的主顯示區，所述遮擋區用以對應所述顯示基板的邊緣顯示區。

2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述邊緣顯示區的外輪廓至少部分位置為弧形。

3.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述開口區的形狀與所述掩膜區的外輪廓的形狀相同。

4.根據權利要求3所述的掩膜板，其特征在于，

所述開口區的形狀包括圓形或者橢圓形。

5.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，

所述遮擋區的材質包括金屬。

6.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，

所述顯示基板的顯示區包括主顯示區和環繞主顯示區的邊緣顯示區；

所述顯示基板的制備方法包括：

利用掩膜板，通過構圖工藝在基底的主顯示區形成輔助發光結構；其中，所述掩膜板為權利要求1至4中任意一項所述的掩膜板。

7.根據權利要求6所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，

所述利用掩膜板，通過構圖工藝在基底的主顯示區形成輔助發光結構的步驟包括：

將掩膜板與基底進行對位，其中所述掩膜板的開口區與基底的主顯示區對應；

通過蒸鍍工藝在基底的主顯示區形成輔助發光結構。

8.根據權利要求6所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，

所述邊緣顯示區的外輪廓至少部分位置為弧形。

9.根據權利要求8所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，

所述顯示基板為OLED基板；

所述輔助發光結構為OLED器件的空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層、電子注入層中的至少一者。

10.根據權利要求9所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，

所述輔助發光結構為OLED器件的空穴傳輸層。