[發明專利]官能化F-POSS單體組合物及其用途

在審

• 申請號: 201811073764.8
• 申請日: 2018-09-14
• 公開（公告）號: CN109503652A
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發明（設計）人: J·C·華納;J·R·洛貝倫茨;S·R·切魯庫;T·W·杰羅;P·L·老卡欽斯
• 申請（專利權）人: NBD納米技術公司
• 主分類號: C07F7/21
• 分類號: C07F7/21;C08G77/06;C08G77/24;C08G77/20;C08G77/26
• 代理公司: 上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218
• 代理人: 翟羽

該官能化F?POSS化合物包括產生氟化多面體低聚倍半硅氧烷分子結構和/或官能團分布的至少兩種原料的合成共混物。

有關專利申請的交叉引用

本申請是2016年3月9日提交的第15/065,289號美國專利申請的部分繼續申請，該第15/065,289號美國專利申請要求2015年3月9日提交的第62/130,170號美國臨時專利申請的優先權，并且是2016年8月8日提交的第15/230,697號美國專利申請的部分繼續申請，該第15/230,697號美國專利申請是2015年10月7日提交的第14/876,911號美國專利申請的繼續申請，該第14/876,911號美國專利申請要求2014年10月7日提交的第62/060,622號美國臨時專利申請的優先權，并且這些專利申請共同轉讓給本申請的受讓人，這些專利申請的公開內容以引用方式整體并入本案。

技術領域

本公開在示例性實施例中涉及官能化F-POSS化合物，該官能化F-POSS化合物包括產生氟化多面體低聚倍半硅氧烷(fluorinated polyhedral oligomericsilsesquioxane)分子結構和/或官能團分布的至少兩種原料的合成共混物。本公開在示例性實施例中還涉及制造這種化合物的方法及其用途。

背景技術

氟化多面體低聚倍半硅氧烷(“F-POSS”)分子是由外圍帶長鏈氟化烷基基團的氧化硅芯[SiO_1.5]組成的多面體低聚倍半硅氧烷(“POSS”)的子類。F-POSS分子擁有導致產生超疏水表面和疏油表面的已知最低表面能中的一種。F-POSS材料的特征是其通常形成甲硅烷氧基籠形結構(siloxy cage)，該甲硅烷氧基籠形結構起無機玻璃狀材料的作用，但是在矩陣頂點處具有有機R基團取代基，這樣提供不一般的特性和應用。請參見下面的式I。

F-POSS分子應用于材料科學。例如，已經利用F-POSS通過澆注于基底上或者摻入聚合物基體內產生超疏水表面和超疏油表面。例如，請參見Chhatre,S.S.；Guardado,J.O.；Moore,B.M.；Haddad,T.S.；Mabry,J.M.；McKinley,G.H.；Cohen,R.E.ACSAppl.Mater.Interfaces 2010,2,3544–3554；Mabry,J.M.；Vij,A.；Iacono,S.T.；Viers,B.D.Angew.Chem.,Int.Ed.2008,47,4137–4140；Tuteja,A.；Choi,W.；Mabry,J.M.；McKinely,G.H.；Cohen,R.E.Proc.Natl.Acad.Sci.U.S.A.2008,105,S18200/1–S18200/29；以及Tuteja,A.；Choi,W.；Ma,M.；Mabry,J.M.；Mazzella,S.A.；Rutledge,G.C.；McKinley,G.H.；Cohen,R.E.Science 2007,318,1618–1622。

有需要提供在材料中使用的新穎官能化F-POSS化合物。

發明內容

在示例性實施例中，提供下式的化合物：