[發(fā)明專利]一種振動除垢裝置及系統(tǒng)、振動除垢控制系統(tǒng)及振動除垢方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811072515.7 | 申請日： | 2018-09-14 |
| 公開（公告）號： | CN108996713A | 公開（公告）日： | 2018-12-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 丁山清 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞市華清環(huán)保工程有限公司 |
| 主分類號： | C02F5/00 | 分類號： | C02F5/00;C02F1/48;C02F1/461 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知識產(chǎn)權(quán)代理事務所 44271 | 代理人： | 殷齊齊 |
| 地址： | 523000 廣東省東莞*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 反應器 陽極 除垢 氣動錘 固定架 同軸心設(shè)置 除垢裝置 控制系統(tǒng) 陽極裝置 排垢口 陰極 電解效果 工作效率 管狀陽極 上下兩端 不導電 出水管 進水管 排垢閥 氣壓 敲擊 外周 連通 | ||
本發(fā)明公開了一種振動除垢裝置及系統(tǒng)、振動除垢控制系統(tǒng)及振動除垢方法，包括作為陰極的反應器，陽極裝置和氣動錘，所述陽極裝置包括管狀陽極與不導電的固定架，所述固定架位于陽極上下兩端，所述陽極通過固定架固定在反應器內(nèi)，所述陽極與反應器同軸心設(shè)置，所述反應器上設(shè)有進水管與出水管，所述反應器外周上設(shè)置有多個氣動錘，所述氣動錘在連通氣壓時直接敲擊反應器產(chǎn)生振動，所述反應器下方設(shè)置有排垢口，所述排垢口上設(shè)有排垢閥。有效的效果：陽極與反應器同軸心設(shè)置，使陽極與反應器之間的距離相同，電解效果好，PLC控制器與氣動錘可以實現(xiàn)全自動振動除垢，提高了工作效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及循環(huán)水電解過濾技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種用于循環(huán)水冷卻系統(tǒng)中的振動除垢裝置及振動除垢系統(tǒng)、振動除垢控制系統(tǒng)及振動除垢方法。
背景技術(shù)
在工業(yè)生產(chǎn)過程中，經(jīng)常使用循環(huán)水對工業(yè)生產(chǎn)的設(shè)備或模具或產(chǎn)品進行冷卻，冷卻過程實際上是通過循環(huán)水的蒸發(fā)實現(xiàn)的，在循環(huán)水蒸發(fā)時，循環(huán)水被濃縮，循環(huán)水中的Ca2+，Mg2+，CO32-,HCO3-等離子濃度會逐漸升高，Ca2+，Mg2+會與CO32-結(jié)合，形成CaCO3，MgCO3等不溶解性雜質(zhì)附著在換熱表，面，從而影響換熱器的換熱效果。
為此必須采用相關(guān)技術(shù)手段防止水垢的產(chǎn)生，如現(xiàn)有技術(shù)中常用的電解除垢阻垢技術(shù)，但現(xiàn)有技術(shù)中的電解除垢阻垢技術(shù)還存在如下缺點：
1、電解裝置內(nèi)的陰極與陽極結(jié)構(gòu)復雜，如密閉箱式結(jié)構(gòu)，為了保證陰極與陽之間距離多采用板狀結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)的陰極與陽極的表面積相同，為增大反應面積，會采用多個陰極與陽之間交叉設(shè)置，由于這種陰陽極之間的間隔較小，會對清除陰極上的水垢造成不便；還會碰傷陽極，從而影響設(shè)備使用壽命及處理效果。
2、現(xiàn)有技術(shù)中，清除陰極上的水垢時一般會采用手工或自動刮除水垢，
采用手刮除時，此種方式除垢效率低下，而且很容易弄傷陽極，從而影響設(shè)備使用壽命及處理效果。
最重要的是電解除垢的原理是以循環(huán)水為導電介質(zhì)，在陰極和陽極之間施加一定的電流及電壓，讓Ca2+，Mg2+等陽離子向陰極運動并在陰極上CaCO3，MgCO3等水垢沉積下來，從而降低循環(huán)水的硬度。水垢上有很多用于離子運動的小孔，不管是采用手動刮除還是自動刮除陰極上的水垢時，都是采用外力借用器具刮擦陰極，都會在陰極表面殘留一定厚度的水垢，在電解反應過程中，水垢的表面或內(nèi)部有很多小孔，是離子運動的通道，但通過外力刮擦陰極時會堵塞這些小孔，可以理解為在陰極表面會涂抹了一層結(jié)緣層，造成在電解時，離子通過量減少，表現(xiàn)為電壓上升，能耗增大，除垢能力下降，影響水處理效果。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種用于循環(huán)水冷卻水電解阻垢除垢設(shè)備中的振動除垢裝置及振動除垢系統(tǒng)、振動除垢控制系統(tǒng)及振動除垢方法，以解決背景技術(shù)中的技術(shù)問題。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：
一種振動除垢裝置，包括作為陰極的反應器，陽極裝置和氣動錘，所述陽極裝置包括管狀陽極與不導電的固定架，所述固定架位于陽極上下兩端，所述陽極通過固定架固定在反應器內(nèi)，所述陽極與反應器同軸心設(shè)置，所述反應器上設(shè)有進水管與出水管，所述反應器外周上設(shè)置有多個氣動錘，所述氣動錘在連通氣壓時直接敲擊反應器產(chǎn)生振動，所述反應器下方設(shè)置有排垢口，所述排垢口處設(shè)有排垢閥。
進一步的技術(shù)方案：所述排垢閥可以是手動打開或關(guān)閉，也可是由驅(qū)動器(如電機或氣缸)帶動打開或關(guān)閉。
進一步的技術(shù)方案：所述氣動錘陣列設(shè)置在反應器外周上。
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