[發明專利]一種濕法黑硅制絨清洗槽、制絨機臺及濕法黑硅制絨方法

在審

• 申請號: 201811068621.8
• 申請日: 2018-09-13
• 公開（公告）號: CN109326538A
• 公開（公告）日: 2019-02-12
• 發明（設計）人: 孟少東;黃明;李超;徐昆
• 申請（專利權）人: 江西展宇新能源股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L31/0236;C30B33/10
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

1.一種濕法黑硅制絨清洗槽，所述濕法黑硅制絨清洗槽包括槽體、花籃、加熱板、循環管道及循環泵，其特征在于，包括：

兆聲波發生器，所述兆聲波發生器設置在所述槽體的底部，用于產生高能聲波，推動清洗液分子連續沖擊黑硅基片表面。

2.如權利要求1所述的濕法黑硅制絨清洗槽,其特征在于，所述兆聲波發生器產生的兆聲波頻率為0.8兆赫茲至1.0兆赫茲，包括端點值。

3.如權利要求1所述的濕法黑硅制絨清洗槽,其特征在于，所述循環管道，還包括精濾過濾器，所述精濾過濾器的精度為10微米。

4.如權利要求3所述的濕法黑硅制絨清洗槽，其特征在于，所述循環管道，還包括微濾過濾器，所述微濾過濾器精度為0.1微米。

5.如權利要求1所述的濕法黑硅制絨清洗槽，其特征在于，所述花籃設置于所述兆聲波發生器的正上方。

6.如權利要求1-5任一項所述的濕法黑硅制絨清洗槽，其特征在于，所述加熱板的數量不低于兩塊，所述加熱板在所述槽體的側壁上均勻分布。

7.一種制絨機臺，其特征在于，所述制絨機臺包括如權利要求1-6任一項所述的濕法黑硅制絨清洗槽。

8.一種濕法黑硅制絨的方法，其特征在于，包括：

提供黑硅基片；

在所述黑硅基片進行銀沉積之前，通過如權利要求1-6任一項所述的濕法黑硅制絨清洗槽進行去臟污清洗。

9.如權利要求8所述的濕法黑硅制絨的方法，其特征在于，在所述黑硅基片進行銀沉積之后，還包括：

通過如權利要求1-6任一項所述的濕法黑硅制絨清洗槽進行去臟污清洗。

10.如權利要求8所述的濕法黑硅制絨的方法，其特征在于，所述黑硅基片在進行銀沉積之前的第一次堿洗中，所述堿洗的溫度控制在70攝氏度到80攝氏度之間，包括端點值。