[發明專利]祛痘制劑

有效

• 申請號: 201811065865.0
• 申請日: 2018-09-13
• 公開（公告）號: CN109010245B
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 吳劍萍;孫云起;孫懷慶;裴運林;聶艷峰;胡露
• 申請（專利權）人: 廣東丸美生物技術股份有限公司
• 主分類號: A61K8/99
• 分類號: A61K8/99;A61K8/9789;A61K8/92;A61K8/73;A61K8/64;A61K8/63;A61K8/60;A61K8/34;A61K8/365;A61P17/02;A61P17/10;A61Q17/00;A61Q19/00
• 代理公司: 廣州科沃園專利代理有限公司 44416
• 代理人: 徐晶

1.制劑在制備祛痘、祛疤、促進TIMP-1生成、抑菌、祛除人體中性粒細胞系統中的活性氧及增強人表皮角化細胞活力化妝品中的用途，其特征在于，包括以下重量份數的組分：植物控油因子1～3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5～2份、痤瘡克星3～10份、積雪草苷0.2～1份、甘草酸二鉀0.05～0.2份和密羅木葉/莖提取物1～6份，所述羧甲基酵母葡聚糖的取代度為69.6％；所述疤痕包括淺表性疤痕和凹陷性疤痕；所述菌包括痤瘡丙酸桿菌、表皮葡萄球菌、糠皮孢子菌和金黃色葡萄球菌。

2.制劑在制備祛疤痕化妝品中的用途，其特征在于，包括以下重量份數的組分：植物控油因子1～3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5～2份、痤瘡克星3～10份、積雪草苷0.2～1份、甘草酸二鉀0.05～0.2份和密羅木葉/莖提取物1～6份；所述疤痕包括淺表性疤痕和凹陷性疤痕；所述羧甲基酵母葡聚糖的取代度為69.6％。

3.制劑在制備具有組織基質金屬蛋白酶抑制因子-1生成促進作用的化妝品中的用途，其特征在于，包括以下重量份數的組分：植物控油因子1～3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5～2份、痤瘡克星3～10份、積雪草苷0.2～1份、甘草酸二鉀0.05～0.2份和密羅木葉/莖提取物1～6份；所述羧甲基酵母葡聚糖的取代度為69.6％。

4.制劑在制備具有抑菌作用的化妝品中的用途，其特征在于，包括以下重量份數的組分：植物控油因子1～3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5～2份、痤瘡克星3～10份、積雪草苷0.2～1份、甘草酸二鉀0.05～0.2份和密羅木葉/莖提取物1～6份；所述菌包括痤瘡丙酸桿菌、表皮葡萄球菌、糠皮孢子菌和金黃色葡萄球菌；所述羧甲基酵母葡聚糖的取代度為69.6％。

5.制劑在制備具有祛除人體中性粒細胞系統中活性氧作用的化妝品中的用途，其特征在于，包括以下重量份數的組分：植物控油因子1～3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5～2份、痤瘡克星3～10份、積雪草苷0.2～1份、甘草酸二鉀0.05～0.2份和密羅木葉/莖提取物1～6份；所述羧甲基酵母葡聚糖的取代度為69.6％。

6.制劑在制備具有增強人表皮角化細胞活力作用的化妝品中的用途，其特征在于，包括以下重量份數的組分：植物控油因子1～3份、羧甲基酵母葡聚糖0.5～2份、痤瘡克星3～10份、積雪草苷0.2～1份、甘草酸二鉀0.05～0.2份和密羅木葉/莖提取物1～6份；所述羧甲基酵母葡聚糖的取代度為69.6％。

7.一種祛痘膜，其特征在于，由以下重量份數的組分制成：如權利要求1所述的祛痘制劑20～35份、多元醇1-20份、親水性成膜高分子材料0.01-25份、增稠劑0.01-5份、pH調節劑0.01-2份、螯合劑0.01-1份、促滲劑0.01-5份、防腐劑0.01-5份和去離子水40～60份。