[發(fā)明專利]殼體表面處理工藝、殼體及移動終端

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811065234.9
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN109017102B
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發(fā)明（設計）人: 柯柏龍;林四亮
• 申請（專利權）人: 維沃移動通信有限公司
• 主分類號: B29C59/02
• 分類號: B29C59/02;B44C1/17;H05K5/02
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產(chǎn)權代理有限公司 11315
• 代理人: 許志勇;劉昕

1.一種殼體表面處理工藝，所述殼體具有長度方向和寬度方向，其特征在于，包括如下步驟：

提供具有目標紋理的轉印模具，所述目標紋理包括多條弧形凹槽，多條所述弧形凹槽的排布方向與所述長度方向和所述寬度方向之間均形成非零夾角；至少一條所述弧形凹槽包括相連接的第一圓弧槽段和第二圓弧槽段，所述第一圓弧槽段和所述第二圓弧槽段的彎曲方向相反；

將所述目標紋理轉印至所述殼體的表面上；

在所述表面上形成反射膜；

在所述反射膜上形成遮光層。

2.根據(jù)權利要求1所述的殼體表面處理工藝，其特征在于，所述排布方向與所述寬度方向之間形成的夾角為30°～60°。

3.根據(jù)權利要求1所述的殼體表面處理工藝，其特征在于，所述第一圓弧槽段和所述第二圓弧槽段的曲率相等。

4.根據(jù)權利要求1所述的殼體表面處理工藝，其特征在于，至少一條所述弧形凹槽包括多個所述第一圓弧槽段和多個所述第二圓弧槽段，多個所述第一圓弧槽段和多個所述第二圓弧槽段交替連接。

5.根據(jù)權利要求1-4中任一項所述的殼體表面處理工藝，其特征在于，將所述目標紋理轉印至殼體的表面上的步驟包括：

在所述轉印模具中滴入UV膠水；

將所述殼體放入所述轉印模具，并使所述殼體與所述UV膠水貼合；

照射所述殼體和所述UV膠水，直至所述UV膠水凝固。

6.根據(jù)權利要求1-4中任一項所述的殼體表面處理工藝，其特征在于，在所述表面上形成反射膜的步驟包括：

將所述殼體放入光學鍍膜裝置中進行鍍膜，經(jīng)過50min-60min后，取出表面形成反射膜的所述殼體。

7.根據(jù)權利要求1-4中任一項所述的殼體表面處理工藝，其特征在于，在所述反射膜上形成遮光層的步驟包括：

(1)、采用絲網(wǎng)網(wǎng)版在所述反射膜上印刷具有目標色的油墨；

(2)、烘烤所述殼體，烘烤溫度為30～50℃，烘烤時間為40～50min；

(3)、以預設次數(shù)循環(huán)所述步驟(1)～(2)。

8.一種殼體，其特征在于，所述殼體采用權利要求1-7中任一項所述的殼體表面處理工藝加工而成。

9.一種移動終端，其特征在于，包括權利要求8所述的殼體。