[發明專利]自潔式氣體凈化裝置及其凈化方法

在審

• 申請號: 201811062127.0
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN109046776A
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發明（設計）人: 陳養厚;李宇;陳思嘉;王長春;王偉章;倫冠德;陳丹丹;陳勇;牛文歡
• 申請（專利權）人: 濰坊學院
• 主分類號: B03C3/00
• 分類號: B03C3/00;B03C3/34
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

1.自潔式氣體凈化裝置，其特征在于，包括凈化殼體，所述凈化殼體內轉動安裝有至少一個由動力裝置驅動的絕緣體吸附構件，所述凈化殼體包括上部吸附腔室和下部摩擦清理腔室，所述絕緣體吸附構件的轉軸位于所述上部吸附腔室和下部摩擦清理腔室之間，所述絕緣體吸附構件分別伸入所述上部吸附腔室和下部摩擦清理腔室內部，所述上部吸附腔室內設有氣體通道，所述下部摩擦清理腔室內填充有使吸附構件摩擦起電的顆粒、塊狀、絮狀或絲狀的填充物。

2.如權利要求1所述的自潔式氣體凈化裝置，其特征在于，所述絕緣體吸附構件為若干根以所述轉軸為軸心進行輻射布置的輻條形成的輻射結構。

3.如權利要求1所述的自潔式氣體凈化裝置，其特征在于，所述絕緣體吸附構件為一層或多層的柵格結構。

4.如權利要求1所述的自潔式氣體凈化裝置，其特征在于，所述絕緣體吸附構件為一層或多層的網狀結構。

5.如權利要求1所述的自潔式氣體凈化裝置，其特征在于，所述絕緣體吸附構件為剛性構件或柔性構件。

6.一種自潔式氣體凈化方法，其特征在于，包括如下步驟，

S1、使絕緣體吸附構件在凈化殼體內轉動，并在轉動時通過自身摩擦或與外部絕緣體進行摩擦產生靜電；

S2、所述凈化殼體包括上部吸附腔室和下部摩擦清理腔室，氣體在上部吸附腔室的氣體通道中流動，并穿過絕緣體吸附構件的上部，氣體中吸附物由于靜電的吸引作用，附著在絕緣體吸附構件上，經過凈化的氣體從所述氣體通道的出口流出；

S3、在下部摩擦清理腔室填充有使吸附構件摩擦起電的顆粒、塊狀、絮狀或絲狀的填充物，絕緣體吸附構件在轉動時，絕緣體吸附構件與填充物相互摩擦，絕緣體吸附構件上的吸附物被填充物以刮擦擼抹的方式實現清灰過程，同時絕緣體吸附構件與填充物相對運動實現摩擦帶電，帶電后絕緣體吸附構件轉動至上部吸附腔室時，繼續吸附氣體中吸附物，從而實現了在線吸附和清灰。

7.如權利要求6所述的一種自潔式氣體凈化方法，其特征在于，氣體的流動方向與轉軸的方向垂直。