[發明專利]一種用于屏下成像的坐標變換方法、存儲介質及電子設備

有效

• 申請號: 201811062109.2
• 申請日: 2018-09-12
• 公開（公告）號: CN110895665B
• 公開（公告）日: 2023-03-31
• 發明（設計）人: 陳宗文
• 申請（專利權）人: 上海耕巖智能科技有限公司
• 主分類號: G06V40/13
• 分類號: G06V40/13;G06T5/00
• 代理公司: 福州市景弘專利代理事務所(普通合伙) 35219
• 代理人: 林祥翔;魏小霞

1.一種用于屏下成像的坐標變換方法，其特征在于，包括步驟：

計算坐標系縮小系數，并根據所述坐標系縮小系數對坐標系進行縮小；

將指紋圖像上各亮點的坐標轉換至縮小后的坐標系上；所述亮點為點光源成像后在所述指紋圖像中的亮斑區域；

保持亮點周圍的指紋信息與亮點中心相對距離大小不變，將所述亮點周圍的指紋信息整體移至縮小后的坐標系上；

所述“計算坐標系縮小系數”前，還包括步驟：

對指紋圖像進行處理，確定任一點光源對應的圓形暗區，所述圓形暗區的直徑為D，根據D的值計算出屏幕厚度參數；

其中，“對指紋圖像進行處理，確定任一點光源對應的圓形暗區”包括：確定指紋圖像中點光源對應的亮斑位置，以亮斑為圓心逐漸向外掃描，掃描到的平均灰度值首次達到最大值的邊緣視為圓形暗區的圓周；

所述指紋圖像由屏下圖像成像結構獲取，所述計算坐標系縮小系數包括：

根據所述屏下圖像成像結構的放大系數計算坐標系縮小系數；

所述屏下圖像成像結構包括透光蓋板、發光層和光電傳感器，所述發光層、所述光電傳感器置于所述透光蓋板的下方，所述屏下圖像成像結構的屏幕厚度參數包括所述透光蓋板的厚度，所述發光層與所述光電傳感器之間的距離為h,所述透光蓋板的厚度為H，所述屏下圖像成像結構的放大系數為2+h/H。

2.根據權利要求1所述一種用于屏下成像的坐標變換方法，其特征在于，

所述“保持亮點周圍的指紋信息與亮點中心相對距離大小不變，將所述亮點周圍的指紋信息整體移至縮小后的坐標系上”，還包括步驟：

根據指紋圖像獲取方式不同對指紋圖像進行區域劃分，保持各區域中亮點周圍的指紋信息與亮點中心相對距離大小不變，將各區域的指紋信息移至縮小后的坐標系上。

3.根據權利要求2所述的一種用于屏下成像的坐標變換方法，其特征在于，

所述“對指紋圖像進行處理”前，還包括步驟：

點亮顯示面板的多個分立的點光源區域的像素點，所述點光源區域呈陣列排列且間隔有不發光像素點，所述點光源區域包含有多個像素點；

通過光電傳感器獲取像素點經過透光蓋板全反射的光線；所述顯示面板、光電傳感器置于所述透光蓋板的下方。

4.根據權利要求3所述的一種用于屏下成像的坐標變換方法，其特征在于，

所述陣列排列為橫向排列與縱向排列或者所述陣列排列為環狀排列。

5.根據權利要求3所述的一種用于屏下成像的坐標變換方法，其特征在于：

相鄰兩個點光源的間距滿足光電傳感器采集到的點光源全反射圖像不接觸、不重復的條件。

6.根據權利要求3所述的一種用于屏下成像的坐標變換方法，其特征在于：

所述顯示面板為液晶顯示屏、有源陣列式有機發光二極管顯示屏或微發光二極管顯示屏。

7.一種存儲介質，其特征在于：所述存儲介質存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1到6任意一項所述方法的步驟。

8.一種電子設備，其特征在于：包括存儲器、處理器，所述存儲器上存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時實現如權利要求1到6任意一項所述方法的步驟。